紫外光清洗基本原理

紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量，当这些光子作用到被清洗物体表面时，由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用，臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下，物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。

清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。

紫外光清洗技术的应用主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。

主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。 2100433B

紫外光源长波紫外光源

主要有长波紫外线灯、紫外线高压汞灯、紫外线氙灯和紫外线金属卤化物灯，紫外线led发光二极管《海特奈德》。长波紫外光源广泛应用于重氮复印、静电复印、印刷制版，机械工业中的荧光探伤，化学工业中的光合成、光固化、光氧化，农业上的捕鱼诱虫，公安方面的检查、鉴别，以及某些皮肤病的治疗等方面。此外，在装饰照明、广告照明、舞台效果方面，长波紫外光源也日益受到重视。

紫外光源中波紫外光源

主要指紫外线荧光灯。它具有红斑效应和保健作用，适用于医疗保健。这种灯的玻管用能截止短波紫外线的钠钙玻璃制作，与普通照明荧光灯的区别仅在于辐射波长的范围不同。中波紫外线金属卤化物灯也可用于医疗保健。

紫外光源短波紫外光源

主要指冷阴极低压汞灯和热阴极低压汞灯。冷阴极低压汞灯结构形式多样,有直管形、U形、盘形等，用于荧光分析、医疗和光化学反应等方面。这种灯紫外辐射强度高，但需用漏磁变压器起动，使用不方便。热阴极低压汞灯即消毒灭菌灯,于1936年问世,是世界上最早使用的紫外光源。它的玻壳由能透过 254nm紫外线的玻璃（石英或高硼玻璃）制成，一般为直管形。热阴极低压汞灯是生产和应用量最大的紫外光源，在各医院得到广泛使用。

紫外光源真空紫外光源

主要用作光电子能谱仪的激发源、臭氧发生源和真空紫外波长标准。