氧化铟制备方法

1.将高纯金属铟在空气中燃烧或将碳酸铟煅烧生成In₂O、InO、In₂O₃，精细控制还原条件可制得高纯In₂O₃。也可用喷雾燃烧工艺制得平均粒径为20nm的三氧化二铟陶瓷粉。

2.将氢氧化铟灼烧制备三氧化二铟时，温度过高的话，In₂O₃有热分解的可能性，若温度过低则难以完全脱水，而且生成的氧化物具有吸湿性，因此，加热温度和时间是重要的因素。另外，因为In₂O₃容易被还原，所以必须经常保持在氧化气氛中。

3.将氢氧化铟在空气中，于850℃灼烧至恒重，生成In₂O₃，再在空气中于1000℃加热30min。其他硝酸铟、碳酸铟、硫酸铟在空气中灼烧也可以制得三氧化二铟。

蒸气压（mmHg,25ºC）：<0.01

溶解性：不溶于水，溶于热的无机酸

中文名称：氧化铟

中文别名：氧化铟(III);纳米氧化铟;三氧化二铟;氧化铟/纳米氧化铟;

英文名称：Indium Oxide

英文别名：Diindium trioxide,Indium sesquioxide;Indium(III) oxide;Diindium trioxide Indium sesquioxide;

Diindium trioxide,Indium sesquioxide,Indium(III) oxide;Indium oxide;

CAS号：1312-43-2

分子式：In₂O₃

分子量：277.63400

精确质量：277.79200

PSA：43.37000

1.用作光谱纯试剂和电子元件的材料等

2.用于金属反射镜面的保护涂层、光电显示半导体薄膜，也用于制造铟盐、玻璃。

电阻式触摸屏中经常使用的原材料，主要用于荧光屏、玻璃、陶瓷、化学试剂等。另外，广泛应用于有色玻璃、陶瓷、碱锰电池代汞缓蚀刘、化学试剂等传统领域。近年来大量应用于光电行业等高新技术领域和军事领域，特别适用于加工为铟锡氧化物(ITO)靶材，制造透明电极和透明热反射体材料，用于生产平面液晶显示器和除雾冰器。

1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:3

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积3

7.重原子数量:5

8.表面电荷:0

9.复杂度:0

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:5

1、单一同位素质量：277.7925 Da

2、标称质量：278 Da

3、平均质量：277.6342 Da

通常来说对水是无害的，若无政府许可，勿将材料排入周围环境。

在氢气或其他还原剂存在下，加热至400～500℃可还原成金属铟或低价铟的氧化物。

在高温下分解为低级氧化物。另外，在高温下可与金属铟发生反应，低温灼烧生成的In₂O₃虽易溶于酸，但经过高温处理得越完全就越难溶，吸湿性也消失了。三氧化二铟在赤热状态下用氢气还原时，则生成金属铟。

RTECS号：NL1770000

急性毒性：大鼠口经LD：>10gm/kg；小鼠引入腹膜LDLo：5gm/kg；小鼠口经LDLo：10gm/kg

本产品可按用户要求，装入塑料桶，热塑套管封口。

包装（Package）： 20公斤/袋

保持贮藏器密封、储存在阴凉、干燥的地方，确保工作间有良好的通风或排气装置。

国家标准《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2017 ）的制定，有利于打破发达国家设置的技术壁垒，促进氧化铟锡靶材国产化；有利于规范中国国内氧化铟锡靶材的生产。

国家标准《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2017 ）规定了氧化铟锡靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输与贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容等。该标准适用于以99.99%金属铟、锡为原料生产的氧化铟锡靶材，用于制作透明导电膜。

氧化铟锡靶材编制进程

• 标准计划

2014年11月19日，国家标准计划《氧化铟锡靶材》（20140965-T-610）下达，项目周期48个月，由中国有色金属工业协会提出，由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口上报，TC243SC2（全国有色金属标准化技术委员会重金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。

• 发布实施

2021年3月9日，国家标准《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2017 ）由中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中华人民共和国国家标准化管理委员会发布。

2021年8月1日，国家标准《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2017 ）实施。

氧化铟锡靶材修订依据

国家标准《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2017 ）依据中国国家标准《标准化工作导则—第1部分：标准的结构和编写》（GB/T 1.1-2009）规则起草。

氧化铟锡靶材修订情况

国家标准《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2017 ）代替《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2006），与《氧化铟锡靶材》（GB/T 20510-2006）相比，主要变动如下：

1. 删除了“失氧率”的要求对氧化铟锡靶材的化学成分进行了修改，删除了对杂质元素锌、钙、镁量的控制，增加了杂质铬、铊量的控制；

2. 修改了相对密度的含量范围；

3. 增加了“表面粗糙度”；

4. 增加了“组织均匀性；

5. 修改了组批的方式；

6. 删除了标准附录“失氧率的测定”。

氧化铟锡靶材起草工作

主要起草单位：株洲冶炼集团股份有限公司、中国船舶重工集团公司第725研究所、北京冶科纳米科技有限公司。

主要起草人：谭仪文、黄剑、彭小苏、郗雨林、孙振德、梅方胜、崔晓芳、张士察。