中文名 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 外文名 | Alumium doped zinc oxide magnetron sputtering targets |
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标准编号 | T/ZZB 0639—2018 | 实施日期 | 2018年11月01日 |
发布日期 | 2018年10月19日 |
本标准由宁波市标准化研究院牵头组织制定。 本标准主要起草单位:宁波森利电子材料有限公司。 本标准参与起草单位:宁波市标准化研究院、中国科学院宁波材料技术与工程研究所、国标(北京)认证有限公司、汉能装备科技集团有限公司、北京安泰六九新材料科技有限公司、世泰科特种材料(太仓)有限公司(排名不分先后)。
本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。
本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。
本标准主要起草人:杨晔、周山山、何伟、兰品军、朱永明、李翔、宋伟杰、李勇、马通达、杨立红、宋云娜、张凤戈、夏黎海。
如果有可能的话,最可能的是靶材利用率,磁控旋转靶材一般在两头的位置,磁场形成回路,磁场最强,这样,磁控溅射更多的自由电子,形成较强的自维持放电现象。相对应的,最容易溅射,溅射速率增强,所以溅射速度较其...
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异...
完全可以做平板电容的电极和介质,溅射镀膜是很可控的薄膜,多以可以做高档电容
文章就我公司精馏工序全面投产后,因物料运输的影响而导致的生产不正常,无法达产达标标现象进行了科述,提出了一种新的工艺流程改造方案并付诸实践,将改造前后手生产实践情况进行了对比,改造后生产转下正常、取得了显著的效益。2
文章就我公司精馏工序全面投产后,因物料运输的影响而导致的生产不正常,无法达产达标现象进行了简述,提出了一种新的工艺流程改造方案并付诸实践。将改造前后的生产实践情况进行了对比,改造后生产转入正常.取得了显著的效益。
磁控手电筒具有体积小,结构简单、重量轻、耗电少、感应灵敏、抗腐蚀性好、寿命长、防水能力强,使用方便,价格便宜等诸多优点。 如MCOBEAM CK11和MCOBEAM CK13,都是性能不错的磁控手电筒。
基本介绍
项目编号Plan Name in Chinese 20110426-T-610
中文项目名称Plan Name in Chinese 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
英文项目名称Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
制\修订Plan Name in English 制定
被修订标准号Replaced Standard
采用国际标准Adopted International Standard 无
采用国际标准号Adopted International Standard No
采用程度Application Degree
采标名称Adopted International Standard Name
标准类别Plan Name in English 产品
国际标准分类号(ICS)
计划完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年
完成时间Achievement Time
所处阶段Plan Phase 起草阶段
国家标准号Standard No.
备注Remark 国标委综合[2011]57号
起草单位Drafting Committee 有研亿金新材料股份有限公司
主管部门Governor 中国有色金属工业协会
归口单位Technical Committees 243 全国有色金属标准化技术委员会
钼是一种金属元素,主要用于钢铁工业,其中的大部分是以工业氧化钼压块后直接用于炼钢或铸铁,少部分熔炼成钼铁,钼箔片后再用于炼钢。
它可增强合金的强度、硬度、可焊性及韧性,还可增强其耐高温强度及耐腐蚀性能。
四丰靶材专家指出,钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜这种射膜广泛用作电子部件和电子产品如目前广泛应用的TFT-LCD(Thin Filmtransitor- Liquidcrystaldis- plays薄膜半导体管-液品显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS[互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。
钼溅射靶材的应用
在电子行业中钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。
钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的1/2的优势而且不存在环境污染问题因此成为了平面显示器溅射靶材的首选材料之一。此外铝使用在LCD的元器件中可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能大大提升。
平面显示器行业中溅射靶材的主要市场应用之一是TLCD领域。市场研究表明未来几年是LCD发展的高峰期年增长率达30%左右。随着CD的发展LCD溅射靶材的消费量也快速增长年增长率约为20%。2006年全球钼溅射靶材的需求量约700t,2007年则为900左右。
除平面显示器行业外随着新能源行业的发展钼溅射靶在薄膜太阳能光伏电池上的应用也日益增加。钼溅射靶材主要通过溅镀形成CIGS(铜锢镓西薄膜电池电极层。图2是CGS太阳能电池的结构示意图,其中Mo处于太阳能电池的最底层作为太阳能电池的背接触其对CGS薄膜皛体的成核、生长、形貌有着非常重要的作用。
【总结】关于“钼溅射靶材的应用”就为您讲解到这里,对国内的银生产加工企业来说当务之急是抓住市场机遇提升工装水平和科研技术水平制备出高质量的钼溅射靶材产品。若您对上述内容还有疑问,或是相关了解产品相关及价格,欢迎点击【在线询价】服务,客服会在第一时间回复您。
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