显影机是将晒制好的印版通过半自动和全自动的程序将显影、冲洗、涂胶、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷处理设备。一般由传动系统、显影系统、冲洗系统、烘干系统、程序控制系统等部分组成。
中文名称 | 显影机 |
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显影机一般由传动系统、显影系统、冲洗系统、烘干系统、程序控制系统等部分组成。
传动系统是引导印版运行的驱动装置。是由电机通过蜗轮蜗杆或链轮链条带动传送辊转动,并通过对压胶辊驱动使印版通过显影机的各个工作环节。
印版显影过程中,经过循环显影液均匀、连续地喷淋,将印版空白部位的感光层迅速溶解,有的显影机还加有刷辊刷洗,加速这种溶解。为了保证显影液在恒定条件下工作,此部分还有加热器和冷却器,可自动调节温度(一般控制在25℃左右)。药液自动循环过滤,保证各处药液浓度和温度均匀一致。
冲洗系统主要是由两组喷淋管向版面正反面喷淋清水,以除去附着在版面上的显影生成物和多余的显影液,并通过挤压辊挤去版面上的水分;同时具备二次水洗功能。
涂胶系统主要功能是在显影后的版面上涂上一层均匀的保护胶。
干燥系统由送风管和胶辊组成,通过吹风和加热使印版迅速干燥,最后将印版送出。
1、保证显影液循环、胶液循环、水循环顺畅,无堵塞;
2、定期更换显影液,同时清洗显影机(建议每天清洗一次);
3、定期更换过滤芯,一般每周更换一次(建议使用100u滤芯);
4、定期更换保护胶并清洗保护胶系统(建议每天一次);
5、每天擦洗胶辊(可能干净的软布沾显影液擦冼);
6、定期彻底清洗胶辊,保证各胶辊之间压力均匀(每周一次);
7、定期清洗加热段导轨(每周一次);
8、整机清洁,表面不残留显影液或其它化学制剂
显影是指用还原剂把软片或印版上经过曝光形成的潜影显现出来的过程。PS版的显影则是在印版图文显现出来的同时,获得满足印刷要求的印刷版面和版面性能。显影机是将晒制好的印版通过半自动和全自动的程序将显影、冲洗、涂胶、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷处理设备。
使感光材料经曝光后产生的潜影显现成可见影像的药剂。
D-23清水(52℃) 750ml甲氨基酚(米吐尔) 7.5g无水亚钠(硫养)100g加凉水至1升(顺序不要乱)药液介绍:D—23是一种老式软调显影液。甲氨基酚对曝光不足的卤化银作用较大,使阴影部分的...
当输入的打印数据经过处理后,转化为相应的激光信号,通过一组棱镜折射到硒鼓(OPC)表面,从而形成电荷潜影(电荷组成的具体“图像”或“文字”信息)。当OPC旋转经过显影辊时,潜影部分从显影辊表面吸附相应...
显影液配置需参考显影液说明书和印版说明书,一般推荐使用印版厂家配送的显影药液,配置出的显影液必须保证不同厚度版材的显影宽容度。
1、调整胶辊压力
根据印版的厚度范围调节各胶辊之间的压力,保证无窜液或窜液小
显影/水洗、水洗/涂胶、涂胶/烘干,版每次从两胶辊出来都是干净的
调节上胶辊之间的压力,可调节上胶的厚薄,保证上胶
胶辊的硬度适应于印版,在保证上述要求的情况下,压力尽可能小,压力过大,增大显影机负载,并易卡版
2、调整刷辊压力
毛刷干净柔韧,无毛刺,不划伤版面
根据测试结果调节压力,保证网点还原
压力尽可能小,压力大版材难通过,实地和小网点容易损失
毛刷辊旋转方向与版材前进方向相逆,有利于显影效果
根据版材厚度范围调节,保证显影宽容度
3、冲版水压的调节
用手感觉水压,有力,保证水洗充分
1、温度
温度分布均匀,印版四点误差不超过1 ℃, CTP显影机不能超过0.5 ℃
2、显影时间
通过调节传动速度来控制显影时间
3、显影液补充
在显影过程中,显影液会逐渐损耗降低显影性能,所以需要及时补充(开机补充,静态补充,动态补充)。具体参数需根据版材和显影液类型来设定。
4、刷辊速度
刷辊速度要根据实际调试效果设定,保证实地密度和小网点的正常还原
5、冲版水量和水压
冲版水量和水压调整要保证正反面水洗充分
6、烘干温度
烘干温度一般控制在50--70 ℃之间,要视干燥情况和印刷效果而定。
本文的烘干仅仅是干燥了,绝非烤版。
我国有些地区,在使用宝丽来黑白胶片拍摄人像照片后,发现有些照片在保存2—3年,有的甚至1年后就开始泛黄、影像密度变浅,有些照片的影像已无法辩认,给工作带来了损失。为使使用者了解宝丽来黑白照片的保存特性、存放方法及问题出现的原因,贾荣炽同志编译了此文,供参考。
传统的铝板刻蚀技术要求高,设备复杂,且板材需进口。为此,作者研究了用感光显影腐蚀法制备装饰性铝板的工艺,研制了相应的感光液、显影液及腐蚀液。用本技术可蚀刻出清晰的图象,且操作简便,成本低廉,经济效益高。
宇宙显影机过滤袋说明:
匠奇宇宙过滤袋、宇宙显影机过滤袋,宇宙蚀刻机过滤袋,PCB过滤袋,属于袋式过滤,材质选用针刺毡为主,精度0.5um-300um,适用于UCE内层DES生产线过滤器内过滤袋。
产品名称:宇宙显影机过滤袋 产品编号:PP/PE/PO-精度-尺寸
滤袋材质:丙纶、涤纶、单双面拉毛 配套设备:钛蓝
过滤性能:耐酸碱、耐高温 适应对象:电镀槽阳极过滤杂质
产品简介:
宇宙过滤袋、宇宙显影机过滤袋,宇宙蚀刻机过滤袋,PCB过滤袋,属于袋式过滤,材质选用针刺毡为主,精度0.5um-300um,适用于UCE内层DES生产线过滤器内过滤袋。
产品优点:
宇宙蚀刻机、显影机是电镀行业中常用的设备,与之搭配使用的电镀过滤袋与一般标准滤袋不同。电镀过滤袋能够有效解决电镀液中杂质问题,减少镀层后的气泡及细小颗粒产生。在电镀过程中,会经常和酸液接触,这就要求电镀过滤袋具有良好的耐酸性,电镀过滤袋材质,PP(聚丙烯)可以做到在酸液中的使用要求。
产品规格型号:
产品名称:宇宙过滤袋、宇宙显影机过滤袋,宇宙蚀刻机过滤袋,PCB过滤袋
品牌:匠奇过滤
种类:袋式过滤
用途:液体过滤
袋子材质:PE/PP/其它
精度:0.5~300UM
适用于UCE内层DES生产线过滤器内过滤袋
1.上边φ 120*下底φ90*高480MM
2.φ50*高350MM
3.上边φ 160*下底φ135*高700MM
SCREEN Finetech Solutions Co., Ltd. 最近开发了专用于制造有机EL面板的制造设备“E系列”。从11月起开始销售支持第6代基板的有机EL背板制造工序用涂布显影机“SK-E1500G”、及触控感应面板(TSP)制造工序用涂布显影机“SK-E1500H”,打响第一阵。
SK-E1500G/H
有机EL显示器拥有精美画质及可柔性化等特点,因此以智能手机等移动终端及电视等为主的需求急速扩大,2020年的市场规模预计将增至现在的1.5倍达到480亿美元※1。但是,在有机EL面板的制造阶段,针对有机污染的对策、细小尘埃的控制及静电控制等存在困难,实现稳定供给成为函待解决的课题。
应用雄踞世界市场份额第一的液晶显示器用涂布显影机长期积累的专业技术,SCREEN开发了专用于有机EL面板的制造设备。本次发售的“SK-E1500G”和“SK-E1500H”涂布显影设备支持被称为第6代的1,500mm×1,850mm基板,确立了mini-environment(微环境控制)技术※2,可彻底控制在制造工序中产生的气体、药液成分等浮游物造成的污染及静电。通过降低基板污染,提高了成品率。并且,标准搭载了双喷嘴气浮输送方式狭缝式涂布装置“Levicoater”,可对应有机EL制造工艺必须的2种药液(光刻胶)。此外,还实现了玻璃基板的薄板化※3、TFT微细化※4,成为可适用于多样化器件产品制造工艺的装置。“SK-E1500H”基于先进的基板输送技术,可同时处理2块第6代的半尺寸基板※5,为提高生产效率做出贡献。
1. SCREEN公司调查数据
2. 无尘室的设置方式之一,设置显著高于周围清洁度的局部清洁环境。
3. 支持厚度0.3mm
4. 支持线宽/线间隔(L/S)在1.5μm以下
5. TSP制造工序中,在前工序的蒸镀工序可处理的最大基板尺寸为第6代基板的1/2尺寸。
行业
研报
喷嘴用来供应光刻胶和各种有机溶剂,每一个喷嘴对应一种材料,如图 所示。在整个光刻工艺中,除了曝光,其余所有的步骤都是在匀胶显影机中完成的。匀胶显影机的主要工艺单元分别有晶圆表面增粘处理,光刻胶旋涂单元,边缘曝光,显影单元等,这些单元的装置都离不开喷嘴。
分类:
晶圆表面增粘处理:
有些晶圆表面是亲水的,这不利于光刻胶的涂覆。在这种情况下,通常首先对晶圆表面做增粘处理,这是在匀胶显影机的增粘单元中进行的。在真空腔中装入晶圆后封闭腔体。晶圆在腔体中加热到一定的温度,同时通过喷嘴将六甲基二硅胺(HMDS)气相引入或直接喷淋在晶圆表面,使其直接由亲水性变成疏水性。
1. 光刻胶旋涂单元:
(1)EBR(edge bead remove)喷嘴是指去边溶剂喷嘴。有机溶剂从去边喷嘴中倾斜向外喷在晶圆的边 缘,同时晶圆以一定的速度旋转,清洗晶圆的边缘。
(2)胶喷嘴:如图2 所示,不仅仅局限于光刻胶,也可以用于旋涂抗反射涂层和防水顶盖图层。
(3)背冲洗喷嘴:如图2所示,也用来喷淋溶剂,在离心力的作用下,喷淋的溶剂清洗晶圆背面的边缘区域。
2. 显影单元:显影单元包含一个转台和几个喷嘴,几个喷嘴分别用于喷洒显影液,去离子水以及表面活化剂。显影液的喷淋分为两种方式:静态喷淋盒动态喷淋,显影液喷嘴可以分三类,如图3 所示:
(1)扫描式细长喷口
(2)多个喷嘴动态喷淋
(3)单个喷嘴动态喷淋
目前最新的的显影喷嘴设计,一般是把几个不同的喷嘴集成在一个机械臂上。