公司名称 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 成立时间 | 2006年4月 |
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公司类型 | 国家认定的首批重点集成电路生产企业 | 公司口号 | 开中部先河,集全球英才 |
别 名 | 武汉新芯 | 地 址 | 东湖开发区高新四路18号 |
注册资本 | 245858万元人民币 |
2008年11月,公司净化生产厂房与国 家奥运场馆“鸟巢”、“水立方”等一道荣获全国建筑行业最高奖项—— 鲁班奖。
2021年10月,被表彰为第六届全国杰出专业技术人才先进集体。
地 址:武汉市东湖新技术开发区高新四路18号。
邮政编码:430205。2100433B
湖北省委、 省政府、市委、市政府决策实施武汉12英寸集成电路生产线项目的企业载体,是国家认定的首批重点集成电路生产企业。
武汉新芯公司坐落于东湖开发区高新四路18号,占地531亩。2008年9月22日,公司建设的12英寸芯片项目正式投产,产品良率达到世界 领先水平,结束了我国中部无“芯”的历史。目前,新芯公司已获得海 关A类企业资质;通过了ISO9001质量认证体系和ISO14001、OHSAS 18001环境、安全标准认证体系。
武汉新芯公司的成立与12英寸芯片项目的建设已成功带动我省半导体上下游相关产业的集聚。迄今,已有20多家集成电路设计企业、10余家世界半导体设备供应商、10余家原材料生产企业、涉及10余家化学品供应商进驻光谷。
公司正朝着“开中部先河,集全球英才,建设世界级半导体产业基地”的宏伟目标稳步前行。
新芯集成电路制造公司
企业基本信息 |
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企业名称: |
武汉新芯集成电路制造有限公司 |
企业类型: |
有限责任公司(法人独资) |
注册号: |
420100000047585 |
经营状态: |
开业 |
注册资本: |
245858万元人民币 |
实收资本: |
245858万元人民币 |
企业法人/负责人: |
王继增 |
住所: |
武汉市东湖开发区高新四路18号 |
邮政编码: |
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核准日期: |
2011-05-16 |
成立日期: |
2006-04-21 |
经营截至期限: |
2056-04-20 |
一般经营范围: |
集成电路及相关产品的生产、研发、设计、销售;货物进出口、代理进出口、技术进出口。(国家禁止或限制的货物或技术除外) |
许可经营范围: |
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登记机关: |
武汉市工商局东湖分局 |
管辖工商所: |
流芳所 |
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愿景
成为世界一流的半导体研发,制造和服务公司
使命
开中部先河
集全球英才
打造世界级半导体产业基地
目标
成为世界一流的专业芯片代工公司
核心价值观和做事的方法
我们的价值观是员工是企业文化的基石。我们的价值观体现在商业往来、客户沟通,以及工作流程的方方面面。
《中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司突发环境事件应急预案
西南集成电路设计有限公司(SWID)是一家本土无晶圆IC设计公司。最近该公司选择在美国加州纽波特比奇(NewportBeach)进行代工生产,利用其锗硅BiCMOS工艺技术来制造该公司的射频IC产品。
本书共11章,内容包括集成电路芯片制造概述、衬底材料硅晶片结构及制备、常见微电子器件的结构、集成电路芯片的制造工艺、硅片的沾污与清洗、光刻工艺、刻蚀工艺、掺杂工艺、薄膜生长工艺、表面钝化等,从理论到工艺方法进行了详细介绍。最后用集成电路芯片生产实例将各工艺环节串联起来,给读者一个完整的工艺概念。同时各章配了真实的生产操作视频,用二维码链接,帮助学生从理论到实践的认知。
本书可作为微电子专业本科及大专教材,也可作为微电子专业教师或技术人员入职培训用书,还可作为微电子技术人员的参考用书。
《集成电路芯片制造工艺技术》主要有13章,内容包括集成电路芯片制造工艺概述、氧化技术、扩散技术、光刻技术、刻蚀、离子注入、化学气相淀积、金属化、表面钝化、电学隔离技术、集成电路制造工艺流程、缺陷控制、真空与设备等内容。附录一中还介绍了硅材料基础知识和硅材料的制备,附录二给出了Fab厂常用术语的中英文对照。
《集成电路芯片制造工艺技术》力求在技术体系合理完整的基础上,使内容由浅人深,从制造技术的原理出发,紧密地联系生产实际,方便读者理解这些原本复杂的工艺和流程。《集成电路芯片制造工艺技术》可作为高职高专院校微电子技术及相关专业的教学用书,也可作为工程技术人员的参考用书。
2006年7月:芯动在武汉成立, 公司落户武汉武汉东湖新技术开发区。
2015年12月:芯动发起成立武汉集成电路IP研发推广交易中心。