铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铜材料经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性,目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。
中文名称 | 铜靶材 | 外文名称 | Copper Target |
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用途 | 真空溅射镀膜 | 产地 | 中国 |
适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铜靶材的价格较低,所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
1、铜的生产和提纯:炼铜的原料是铜矿石。铜矿石可分为三类
⑴硫化矿如黄铜矿(CuFeS₂)斑铜矿(Cu5FeS₄)和辉铜矿(Cu₂S)等。
⑵氧化矿如赤铜矿(Cu₂O)孔雀石[Cu₂(OH)₂CO₃]硅孔雀石(CuSiO₃·2H₂O)等。
⑶自然铜铜矿石中铜的含量在1%左右(0.5%~3%)的便有开采价值,因为采用浮选法可以把矿石中一部分脉石等杂质除去,而得到含铜量较高(8%~35%)的精矿砂。经过提取后得到粗铜,再通过多次电解、区域熔炼等方法将铜从99.95%提纯到99.99%、99.999%、99.9999%,目前国内最高纯度在99.9999%(6N)左右。
2、有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。
3、对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。
名称 | 密度 | 色泽 | 熔点 | 沸点 |
铜靶材 | 8.92g/cm3 | 紫红色 | 1083.4℃ | 2567℃ |
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系...
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做导电阻挡层是吧,以前做薄膜存储器时用到这个东西了,氧化钛的大概电阻率是80Ω/m
铜靶材有平面铜靶材和旋转铜靶材之分。
平面铜靶材是片状的,有圆形、方形等。
旋转铜靶材是管状的,利用效率高,但不易加工,要通过高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理,机加工等多种加工工序才能最终制得铜旋转靶材成品。
锌 概况(Survey): 锌( Zinc )是一种化学元素,它的化学符号是 Zn,它的原子序数是 30。 性状(Character ): 锌是一种浅 灰色的过渡金属。锌是一种青白色、光亮、具有反磁性的金属,虽然一般用作商品 的锌都经过加工,这些特性已不再鲜明。 物理性质( Physical property): 状态:固态 密度(接近室温) :7.14 g·cm-3 熔点时液体密度 :6.57 g·cm-3 熔点 :692.68 K,419.53 °C,787.15 °F 沸点 :1180 K,907 °C,1665 °F 熔化热 :7.32 kJ·mol-1 汽化热 :123.6 kJ·mol-1 原子性质( Atomic properties ): 氧化态 :+2, +1, 0 (两性氧化物) 电负性 :1.65(鲍林标度) 原子半径 :134 pm 共价半径 :12
通过对江西东乡铜矿的区域成矿背景、成矿地质特征、矿床地质特征(矿体特征、矿石特征、围岩蚀变)的研究,提出了"三带、两层、三异常"的找矿模型,为本区找寻富铜矿体提供了理论依据;并在此基础上,对区内铜矿体成矿的有利区段进行了预测,优选出4个找矿靶区,为该区深边部找矿指明了方向。