TDM-300石英晶体膜厚仪基本参数

▲ 多监控

可以对连续镀膜以自动或手动两种方式进行监控。

▲多源监测

可同时或分别监测二、四或六个沉积源。用户可根据实际需要进行选型。

▲系统接口

具有一组共二、四或六个输出接口，可分别控制二、四或六个源挡板。用户可根据实际需要

进行选型。

▲高精度

具有高速高精度测量系统，保证镀膜的质量和重复性。

▲数据存储

提供了较高的数据存储能力,可存储99个膜层，并内置256种材料参数方便用户使用。

▲中文界面

TDM-300膜层监控仪采用全中文人机操作界面,易于使用。

▲通用标准配置

有适配电缆，易于安装至现有的装置中，方便替换同类产品。

规格

测量

频率计算精度　0.1Hz/0.03Hz(在6.0MHz频率时)

频率显示精度　0.1Hz

测量速率　10Hz

显示

厚度显示　000000A～999999A

速率显示　000.0～999.9A/s

时间显示　00:00:00～23:59:59（时:分:秒）

层数　01～99层

图形显示　240x64LCD，低功耗LED背光（TDM-200 PRO）

320x240LCD,低功耗LED背光（TDM-300）

存储能力

层　99层

材料库 已定义256种材料

膜层参数

层次 　01～99

终厚 　000000～999999埃

材料 　分子式

密度 　00.00～99.99g/cm3

工具因子　00.00～99.99

Z因子 　00.00～99.99

探头 　A、B（C、D、E、F可选）

同步沉积 “否”或 “是” 系统参数

镀膜方式 “单层”、“多层”

控制方式 “手动”、“自动”

启动延迟 00:00～99:99(分:秒)

多通道方式 “独立”或“联合”

输出控制能力

源挡板数量 　2、4或6个可选

(探头挡板可共用相应端口)

监控能力

源 　2/4/6 (可选)

通讯接口 　标配RS-232串型口

其它

供电要求　220V（±5%），50Hz，

功率<30W

工作温度　0℃～50℃

仪器尺寸　TDM-300：

89 x 484x330（高x宽x深）

TDM-300：

133.5x484x330（高x宽x深）

可用于19’标准工业机架。2100433B

TDM-300膜层监控仪适用于高频溅射、直流溅射、电阻蒸发、离子束、电子束等镀膜应用场合，可对共沉积镀膜进行多源同步监控，或对大面积镀膜进行多点监控。

仪器提供了完备的监测和控制功能, 具有高速高精度测量系统，保证镀膜的质量和重复性。通过液晶显示屏使您能连续获取沉积数据，包括沉积速率、厚度和晶片频率。更可通过计算机得到实时数据及动态和静态数据曲线，方便用户对工艺过程进行分析。

▲ 适用于多种镀膜应用

TDM-300膜层监控仪可对最多六个沉积源同时进行监控。既可应用于对大面积镀膜进行多点监控，监控镀膜均匀性；也可用于监控共沉积镀膜，而且用户可以编辑含有若干共沉积层和单一材料层的膜系；还能作为多台顺序沉积监控仪使用。

镀层膜厚仪，简称为，镀层厚度检测仪，是用来专业测量，金镍，铜厚，等，镀层的厚度的标准仪器。检测镀层厚度也有一定要求，镀层厚度要求分散能力是具有比较性质，其比较的基准是初次电流分布。镀层厚度要求在零件上均匀分布的能力越高，该电镀溶液的分散能力就越好。所谓整平能力(即微观分散能力)是指在底层上形成镀层时，镀液所具有的 ...

监控仪灵敏度0.01 nm/s 单独控制蒸发速率。