水平式离子注入机主要功能

道闸 主要功能： 功能一，手动按钮可作 ‘升’‘降’及‘停’操作、无线遥控可作 ‘升’‘降’‘停’及对手动按钮的 ‘加锁’‘解锁 ’操作 ; 功能二，停电自动解锁，停电后可手动抬杆 ; 功能三，具有便于维护与调试的 ‘自检模式 ’; 道闸 道闸又称挡车器，最初从国外引进，英文名叫 Barrier Gate ，是专门用于道路上限 制机动车行驶的通道出入口管理设备 ，现广泛应用于公路收费站、 停车场系统 管理车 辆通道，用于管理车辆的出入。电动道闸可单独通过无线遥控实现起落杆，也可以通过 停车场管理系统 （即 IC 刷卡管理系统）实行自动管理状态，入场取卡放行车辆，出场 时，收取 停车费 后自动放行车辆。

半导体离子注入工艺 09电科 A柯鹏程 0915221019 离子注入法掺杂和扩散法掺杂对比来说，它的加工温度低、容易制作浅结、均匀的 大面积注入杂质、易于自动化等优点。当前，离子注入法已成为超大规模集成电路 制造中不可缺少的掺杂工艺。离子注入是一种将带点的且具有能量的粒子注入衬底 硅的过程。注入能量介于 1eV到 1MeV之间，注入深度平均可达 10nm~10um。相对 扩散工艺，粒子注入的主要好处在于能更准确地控制杂质参杂、可重复性和较低的 工艺温度。 1.离子注入原理 : 离子是原子或分子经过离子化后形成的，即等离子体，它带有一定量的电荷。可通 过电场对离子进行加速，利用磁场使其运动方向改变，这样就可以控制离子以一定 的能量进入 wafer 内部达到掺杂的目的。 离子注入到 wafer 中后，会与硅原子碰撞而损失能量， 能量耗尽离子就会停在 wafer 中某位置。离子通过与硅原子