组成
该设备主要由上料台、清洗部分、移载机械手、旋转机构、抽风系统及电控部分组成。
描述
1. 此装置是一个全自动的处理设备。
2. 10.4英寸大型触摸屏显示 / 检测 / 操作。
3. 清洗工作过程由 欧姆龙系列PLC控制。
4. 清洗作业员将装满工件的清洗篮放置在进料台上,清洗篮根据设定的程序,自动依次送到各工位,对工件进行清洗、漂洗,漂洗后的工件由链条传输到下料位,由链条送出,最后由作业员将清洗篮取走。
被清洗物
硅料多晶边皮,顶料,片料,埚底料以及原生多晶料等。2100433B
1、硅片晶圆超声波清洗机能清洗硅片。2、硅片晶圆生产清洗工艺中,使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。根据不同清...
请问有需要吗!
超声波在液体中传播,使液体与清洗槽在超声波频率下一起振动,液体与清洗槽振动时有自己固有频率,这种振动频率是声波频率,所以人们就听到嗡嗡声。随着清洗行业的不断发展,越来越多的行业和企业运用到了超声波清洗...
FWA-7108TKC使用说明书 苏州富怡达超声波有限公司 第 1页,共 20 页 目 录 一、 设备概述 ····································· 2 二、 设备各主要组成部份功能 ··························· 2 三、 清洗工艺流程、温度及时间的选择方法 ················· 6 四、 使用前的准备工作 ······························ 8 五、 操作使用说明 ·································· 9 六、 使用注意事项 ·································· 12 七、 常见故障排除方法 ······························ 13 八、 维护与保养 ··············
成都理工大学(毕业设计) 1 成都理工大学(崇州校区) 学生毕业设计(论文) 题目名称: 五槽全自动超声波清洗机 学院名称: 成都理工大学继续教育学院 专业名称: 电气工程及其自动化 学生姓名: 南 强 班 级: 0701 指导教师: __________________________________ 年 月 日 成都理工大学(毕业设计) 2 学生毕业设计(论文)诚信承诺书 本人郑重声明所呈交的毕业设计 (论文)是本人在指导教师指导 下进行研究撰写的成果。 据我所知,除了文中特别加以标注和致谢的 地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果。 与我一 同工作的同学及其他技术人员对本文研究所做的贡献均已在论文中 作了明确的说明并表示谢意。 学生本人(签名): 年 月 日 成都理工大学(毕业设计) 3 学生毕业设计(论文)任务书 学生姓名: 学号: 专业名称: 题目类型:
硅片回收技术硅片回收分类
硅料,硅片,太阳能电池片,单晶电池,多晶电池(整片碎片),125电池片,156电池片,单晶电池片,多晶电池片,半导体硅片,太阳能硅片,单晶硅片,多晶硅片,高效/低效太阳能电池片,崩边缺角太阳能电池片,太阳能电池板组件,太阳能电池碎片,单晶碎电池片,多晶碎电池片,破碎电池片,碎硅片,电池扩散碎片,废硅片,电池裸片,抛光片,光刻片,彩片,蓝膜片,单晶硅棒,多晶硅锭,硅块,原生多晶,顶侧边皮料,单晶边皮,多晶边皮,硅头尾料,锅底料,单晶硅,多晶硅等各类硅材料。硅片回收的准备过程从硅单晶棒开始,到清洁的抛光片结束,以能够在绝好的环境中使用。期间,从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外,整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始,最终在10级净空房内完成。 硅片回收加工过程包括许多步骤。所有的步骤概括为三个主要种类:能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的性能;能减少不期望的表面损伤的数量;或能消除表面沾污和颗粒。硅片加工的主要的步骤如表1.1的典型流程所示。硅片回收技术步骤的顺序是很重要的,因为这些步骤的决定能使银浆回收受到尽可能少的损伤并且可以减少硅片的沾污。在以下的章节中,每一步骤都会得到详细介绍。
原片高阻 | 片面干净且两面均为灰色的碎硅片 |
片面干净且两面均为光泽的碎硅片 | |
片面干净且一面灰色另一面光泽的碎硅片 | |
抛光片高阻 | 片面干净且两面均可作镜子的碎硅片 |
片面干净且一面可作镜子另一面光泽或灰色的碎硅片 | |
工艺片高阻 | 高阻片的边缘重惨 |
抛光片片面重惨 | |
碎硅片带条纹 | |
碎硅片带格子 | |
碎硅片带颜色 |
碎硅片分类
除去碎硅片中杂质的部分,按半导体阻态,碎硅片可分为高阻片和重惨片;其中高阻片按照生产工艺可分为:原片高阻、抛光片高阻和工艺片高阻。