适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的价格较低,所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
铝靶材
物理性质
元素符号 |
Al靶材 |
元素符号 |
Al靶材 |
相对分子质量 |
26.98 |
蒸发潜热 |
11.4 |
原子体积 |
9.996*10-6 |
蒸汽压 |
660/10-8-10-9 |
晶型 |
Fcc面心立方 |
电导率 |
37.67 |
堆积密度 |
74% |
电阻系数 |
0.115 |
配位数 |
12 |
吸收光谱 |
0.20*10-24 |
晶格能 |
200*10-7 |
泊松比 |
0.35 |
密度 |
2.7 |
可压缩性 |
13.3mm2/MN |
弹性模量 |
66.6Gpa |
熔点 |
660.2 |
剪切模量 |
25.5Gpa |
沸点 |
约2500 |
铝靶材有平面铝靶材和旋转铝靶材之分
平面铝靶材是片状的,有圆形、方形等。
旋转铝靶材是管状的,利用效率高,但不易加工,要通过高纯铝挤压、拉伸、校直热处理,机加工等多种加工工序才能最终制得铝旋转靶材成品。
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系...
ITO靶材是高纯三氧化二铟和二氧化锡粉末按照重量比9/1或95/5(最常用)混合均匀后,加压烧结成陶瓷片状,再加工成靶材成品,用作溅射镀制TCO透明导电薄膜,由于氧化铟价格较高,所以I...
做导电阻挡层是吧,以前做薄膜存储器时用到这个东西了,氧化钛的大概电阻率是80Ω/m
1、铝的生产和提纯 :铝是从铝土矿中提取Al2O3,再在熔融冰晶石中电解而得到的,纯度一般在99%以上,但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料,铝靶材对铝材的第一个要求也是最重要的要求就是纯度要高,铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的,价格要比工业纯铝99.7贵很多,国内最高纯度在99.9999%(6N)左右。
2、铝靶材的变形处理:有了高纯度铝锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。
3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工,铝靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。
靶材名称 |
铝靶材 |
|||
常用纯度 |
99.9%(3N) |
99.99%(4N) |
99.999%(5N) |
99.9999%(6N) |
常用尺寸 |
100*40mm |
|||
最大尺寸 |
长3000mm |
随着电子行业的飞速发展,对铝靶材的要求也在一步步增加,铝靶材的纯度和市场规范化、产品标准化还有待国家相关技术的员的共同努力!
Low-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法分析 电池组件厂 张腾 刘鹏程 宋建新 摘要: 由于低辐射玻璃优良的节能功能和巨大的隐形经济效益,在经历石油危机之后, 在各国政策的推广下,其市场销售量经历迅速增长的阶段。目前各发达国家的 LOW-E 玻璃 都得到了大规模的普及, 而当前中国 LOW-E 玻璃使用率仅为 8%,远低于发达国家应用水平。 LOW-E 玻璃的镀膜技术是其关键, 而镀膜用的靶材又是关乎其成败的关键耗材, 本文从技术 的角度分析了 LOW-E 玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法。 关键词: Low-E 玻璃 硅铝靶材 热喷涂 镀膜 制备工艺 低辐射镀膜玻璃简称低辐射玻璃或 LOW-E(Low Emissivity Glass )玻璃,是在玻璃表 面镀膜包括银层在内的多层金属或其他化合物组成的膜系产品,因其所镀的膜层具有极低的 表面辐射率而得名;普通玻璃的表面辐射率在 0.84 左右,
由于低辐射玻璃优良的节能功能和巨大的隐形经济效益,在经历石油危机之后,在各国政策的推广下,其市场销售量经历迅速增长的阶段。目前各发达国家的LOW-E玻璃都得到了大规模的普及,而当前中国LOW-E玻璃使用率仅为8%,远低于发达国家应用水平。LOW-E玻璃的镀膜技术是其关键,而镀膜用的靶材又是关乎其成败的关键耗材,本文从技术的角度分析了LOW-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法。