用途:用于不锈钢紧固件、渔具配件、链条、挂件、弹簧、小五金等不锈钢制品加工后抛光
特点:由清洗剂、光亮剂、缓蚀剂、表面活性剂等复配而成,镜面光泽,泡沫丰富,效力持久。
用法:1、本产品主要功能是抛光,工件抛光时分两步法:第一步除油,第二步使用本品进行抛光
2、配液:将抛光液(06204)按零件重量的1-2%倒入装有不锈钢零件的滚筒中,然后加入与 抛光液同样重量的水(也就是抛光液:水=1:1稀释后使用)。
3、处理过程:滚筒滚动抛光,时间以工件光亮为准,约0.5-1小时,将抛光液排除,用水冲洗干净,离心甩干、风干或晾干即可。
4、 根据工件的表面粗糙状况,可配合磨料(如抛光块等)使用。
注意:1、本品呈酸性,勿入眼、口;对皮肤有轻微腐蚀,如接触用清水冲洗干净。2、阴凉处密封保存长期有效。
包装:塑料瓶:1千克/瓶、24瓶/箱;塑料桶:25千克/桶,40千克/桶
用途:用于不锈钢紧固件、渔具配件、链条、挂件、弹簧、小五金等不锈钢制品加工后抛光, 和不锈钢滚筒抛光液(00112)相比较:酸度更强,更适合于抛光带有氧化皮层或表面粗糙值更高的工件。
特点:本品由清洗剂、光亮剂、缓蚀剂、表面活性剂等复配而成,显著提高了不锈钢零件的表面光亮度,使零件光亮美观, 机械和化学抛光相结合,经济高效,光亮度好。
用法:、1、本产品主要功能是抛光,兼有速效除氧化皮性能,可配合不锈钢滚筒抛光液(06204)使用,第一步用本品滚光清除表面毛刺、氧化皮、沙眼等,第二步使用不锈钢滚筒抛光液(06204)进行抛光,光泽更好,亦可单独使用。
2、配液:将研磨抛光液按零件重量的2-3%(或根据氧化层情况加量)倒入装有不锈钢零件的滚筒中,然后加入两倍水(也就是抛光液:水=1:1~2稀释后使用)。
3、 处理过程:滚筒滚动抛光,时间以工件光亮为准,约1-2小时,将抛光液排除,用水冲洗干净,离心甩干、风干或晾干即可。
4、据工件的表面粗糙状况,针对粗糙值大的工件如不锈钢链条等,可配合磨料(如抛光块等)使用,适当延长滚光时间。
注意:1、本品呈酸性,勿入眼、口;对皮肤有腐蚀,如接触用清水冲洗干净。2、阴凉处保存,长期有效。
包装:塑料瓶:1千克/瓶、24瓶/箱;塑料桶:25千克/桶,40千克/桶。
用途:清除不锈钢(螺丝、挂件、小五金、装饰品等)冷轧、冲压过程中产生的油污和氧化皮,光亮美观。
特点:化学抛光,去油抛光一次完成,快速方便,经济高效,光亮度很好。
用法:将二合一抛光液按1:20-50的比例,加水配成工作液,振动抛光或滚动抛光,时间约15分钟,清水冲净,离心甩干或风干、晾干。
注意:适用于轻度油物的工件,抛光液是浓缩液,抛光时的加水比例根据实际材质情况而定。勿入眼、口,如误触,立即清水冲洗。
包装:塑料瓶:1千克/瓶、24瓶/箱;塑料桶:25千克/桶,40千克/桶。
用途:清除不锈钢(螺丝、挂件、小五金、装饰品等)冷轧、冲压过程中产生的氧化皮,光亮美观。 特点:化学抛光,快速方便,经济高效,光亮度很好,超过市场同类产品。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒,对环境无污染等作用,光液使用方法:包括棘轮扳手、开口扳手...
不锈钢抛光液配方;将原料按照以下顺序分批加入烧杯中,加入热水,磁力搅拌,使物料溶解并混合均匀,即得到抛光液A。具体的加料顺序如下:第一步,先加入聚乙二醇-4000 ;第二步,加入;第三步,加入部分水、...
用途:清除不锈钢(螺丝、挂件、小五金、装饰品等)冷轧、冲压过程中产生的氧化皮,光亮美观。
特点:化学抛光,快速方便,经济高效,光亮度很好,超过市场同类产品。
用法:在滚筒中,用金属清洗液"按1:20的比例加90度热水,加入需抛光的工件,滚动5-15分钟,把油污清洗干净;将抛光液按1:20-50的比例,加水配成工作液,振动抛光或滚动抛光,时间约15分钟,清水冲净,离心甩干或风干、晾干。
注意:抛光工件必须先彻底除油;抛光液是浓缩液,抛光时的加水比例根据实际材质情况而定。
包装:塑料瓶:1千克/瓶、24瓶/箱;塑料桶:25千克/桶,40千克/桶。
抛光液分类
抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。
多晶金刚石抛光液
多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。
主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。
氧化硅抛光液
氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
氧化铈抛光液
氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。
适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液
是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。
主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、砷化镓抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、集成电路多次铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、研磨抛光液、电解抛光液、不锈钢电化学抛光液、不锈钢抛光液、石材专用纳米抛光液、氧化铝抛光液、铜化学抛光液、铝合金抛光液、镜面抛光液、铜抛光液、玻璃研磨液、蓝宝石研磨液等。
抛光液
抛光液
抛光液
抛光液
锗抛光液
集成电路多次铜布线抛光液
集成电路阻挡层抛光液