光稳定剂及其应用技术作者简介

隋昭德，烟台市人。原北京助剂研究所高级工程师、《增塑剂》杂志总编;现任北京加成助剂研究所副总工程师。长期从事增塑剂、光稳定剂、抗氧剂等塑料助剂的科研、设计、建设和生产工艺技术工作，获北京市优秀科技人员二等奖和北京市"讲理想、比贡献"先进个人称号。科技成果曾获北京市、原化工部、吉林省二等和三等奖6项，参编科技专著3册，在期刊、国内会议发表论文30余篇。

该书试图对高分子材料的光降解理论、光稳定化原理和途径，作出深入浅出和简明易懂的叙述，努力兼顾光稳定剂的相关理论和实践，而刻意偏重于实用性，前瞻性和可读性。

ISBN: 9787501971213

开本: 16开

定价: 46元

1 高分子材料的光老化及稳定化机理

1.1 光老化和光稳定剂:

l.2 光化学反应和高分子材料的光降解

1.3 高分子材料光氧化过程

1.4 高分子材料光稳定化机理和途径

1.5 高分子材料光稳定剂的协同效应

2 国外光稳定剂工业现状与发展

2.1 历史沿革和现况

2.2 北美光稳定剂工业现状

2.3 西欧光稳定剂工业现状

2.4 日本光稳定剂工业现状

3 国内光稳定剂工业现状与发展

3.1 历史沿革和现况

3.2 国内光稳定剂应用概况

3.3 国内光稳定剂发展预测

4 光稳定剂的基本性能与分类

4.1 光稳定剂应具备的基本性能

4.2 光稳定剂的分类

5 紫外线屏蔽剂

5.1 炭黑

5.2 钛白粉

6 紫外线吸收剂

6.1 水杨酸酯类紫外线吸收剂

6.2 羟基二苯甲酮类紫外线吸收剂

6.3 羟基苯并三唑类紫外线吸收剂

6.4 羟苯基三嗪类紫外线吸收剂

7 猝灭剂

7.1 光稳定剂NBC

7.2 光稳定剂1084

7.3 光稳定剂200:

7.4 小结

8 受阻胺光稳定剂(HALS)

8.1 GW480(GW-770)

8.2 GW-540

8.3 GW-622

8.4 GW-944

8.5 GW-3346

8.6 GoodriteUV-3034及受阻哌嗪酮类HALS

8.7 HALS-362

8.8 HALS在涂料中的应用

参考文献

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