光刻掩模

光刻掩模是光的一种掩蔽模片,其作用有类似于照相的通过它,可以使它“底下“的光剂部分成光,难溶于有机药品,一部分不感光,易溶于有机药品,以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。

光刻掩模基本信息

中文名 光刻掩摸 相关领域 电力工程
所属类型 专业术语

在平面晶体管和集成电路的制造过程中,要进行多次光刻。为此,必须制备一组具有特定几何图形的光刻掩模。制版的任务就是根据晶体管和集成电路参数所要求的几何图形,按照选定的方法,制备出生产上所要求的尺寸和精度的掩模图案,并以一定的间距和布局,将图案重复排列于掩模基片上,进而复制批量生产用版,供光刻工艺曝光之用。

光刻掩模造价信息

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LED屏 规格:P1.56;组尺寸:常规尺寸320mm×160mm,支持不规则形状定制;像素密度:409600Dots/㎡;灯珠及封装:标准国星封灯,PWM低亮高灰高刷驱动芯片;对比度:大于8000:1LED使用寿命:不小于10万小时; 查看价格 查看价格

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(1)图形尺寸准确,符合设计要求,且不发生畸变。

(2)应有一定数量完全相同的图形,整套掩模版中的各次版应能依次一一套住,套准误差应尽量小。

(3)图形黑白域之间的反差要高,一般要求在2.5以上。

(4)图形边缘应光滑,无毛刺,过渡区要小(即“黑区”应尽可能陡直地过渡到“透明区”)。

(5)版面平整、光洁、无针孔、划痕和小岛。

(6)版面坚固耐用,不易变形。

掩膜版有两种:一种是在涂有普通乳胶的照相干版上,依据掩模原图,用照相方法制成的;另一种是在镀有一薄层金属(通常为铬)的玻璃版上,用光刻法在金属层上刻蚀出所需图形而制成的。为了使每块硅片能同时制作几十至几千个管芯或电路,掩模版上相应有几十至几千个规则地重复排列的同一图形。每个图形之间具有一定的间隔,以便制好管芯或电路后进行划片分割。制作一种平面晶体管或集成电路,需要有一组(几块至十几块)可以相互精确套刻的掩模版。对掩版的基夲求是:精度高、套刻准、反差强和酎磨损。

光刻掩模常见问题

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光刻掩模文献

相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术 相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术

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掺Tm3+光纤激光器在工业、医疗、科技及军事领域具有重要应用前景。光纤布拉格光栅(FBG)是构成光纤激光器的重要元件。但掺Tm3+光纤不具备光敏性,利用紫外脉冲激光很难在其中刻写FBG,即使采用增敏技术提高其光敏性,获得的FBG的折射率调制量也很小,尚不能满足应用要求,阻碍了掺Tm3+光纤激光器全光纤化的发展。以相位掩模法的基本原理为基础,从理论上分析了以飞秒激光为刻写光源的技术要点,总结出与传统紫外激光刻写技术之间的差异及需要注意的问题。建立了飞秒激光相位掩模法刻写光纤光栅的实验系统,利用飞秒激光相位掩模法在非光敏光纤上刻写Bragg光栅,在非光敏掺Tm3+硅基光纤上获得了衍射阶次为二的光纤Bragg光栅,并给出了显微镜下观察到的光栅结构。实验结果证明:飞秒激光可以将FBG刻写入非光敏性硅基光纤,并且具有成栅时间短的优点。

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玻璃银光刻 玻璃银光刻

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玻璃银光刻作为在玻璃上进行的美术创作,呈现给世人的是一个银光异彩的镜画世界。玻璃银光刻最早出现于民国初期的上海。当时上海市场的衣柜门上出现了一种既具观赏性又有实用性的装饰镜,之后这种装饰方法在全国各地流行开来。上世纪50年代,温州玻璃银光刻的第一代传人邵思荣在上海学习并将该种制镜的工艺技法带回温州,后传授于其弟邵松。上世纪70年代,邵松又将该门制镜技艺传授给了温州龙湾民间艺人项有礼。

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微纳无掩膜加工。

1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直写面积 3. 1微米对准精度 4. 200nm自动对焦精度。

由于玻璃基板的厚度和保护膜距离基板的距离相近,均为6mm左右,所以这些吸附在掩模上的颗粒距离掩模图形面(Cr面)的距离都在6mm左右。现代投影式光刻机的聚焦深度(DOF)最多也就是在1~2um,这远小于6mm。因此,在曝光时,这些附着在玻璃和保护膜上的颗粒,只能在晶圆表面形成一个非常模糊的像,对局部的光强产生的干扰很小。只有当这些颗粒的尺寸大到一定程度时,其在晶圆上产生的阴影才可能在光刻胶上留下图形。图1是吸附在Cr图形上的颗粒与吸附在保护膜上的颗粒成像的对比示意图 。

图1 在Cr图形上的颗粒与吸附在保护膜上的颗粒成像对比示意图

掩模保护膜使光透过率减少,并使成像变得更加模糊,如图2所示 :

理论计算表明,只要这些颗粒和模版上Cr图形之间的距离(即掩模的厚度或保护膜的高度)大于t,它们对局部光强的影响就不会超过10%。t定义为

式中,M是光刻系统成像的倍数,对于现代光刻机M=4;d是颗粒的直径。前面已经介绍了t6mm,假设光刻机的数值孔径NA=0.5,据此,我们可以估算出掩模上所允许的最大的颗粒尺寸,d0.18mm。

G-线和Ⅰ-线掩模版所使用的保护膜是高分子量的硝化纤维树脂(high-molecular-weight nitrocellulose polymers)。硝化纤维树脂薄膜的制备工艺如下:首先把硝化纤维树脂的溶液旋涂在平整的玻璃表面;在适当的温度烘干后,把薄膜从玻璃表面揭下。最后把薄膜切割成所需要的尺寸。但是,硝化纤维树脂在DUV波段有较高的吸收系数,因此不能用于248nm。和193nm波长。248nm和193nm保护膜的材质一般是含F的树脂(amorphous fluoropolymers),例如,聚四氟乙烯(teflon)。保护膜的厚度一般在1um左右,可以针对不同的波长做进一步优化。对保护膜材质的要求除了必须具有很高的透明度外,在光照下还不能释放对掩模有害的气体成分。新型保护膜材料还在不断研发中,研发的方向就是含F的聚合物 。

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