通过激光与材料的相互作用,调节样品台旋转及X轴运动速度,可以实现类光栅结构点线阵列、任意图形和灰度图形的激光刻写。
激光波长405 nm,分辨率达100nm。
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机(Mask Aligner)...
DEH系统主要功能: 汽轮机转速控制;自动同期控制;负荷控制;参与一次调频;机、炉协调控制;快速减负荷;主汽压控制;单阀控制、多阀解耦控制;阀门试验;轮机程控启动;OPC控制;甩负荷及失磁工况控制;...
使用中可能产生的问题及售后服务保证 (一).使用环境 雕刻机为高科技机电一体化设备,对工作环境有一定的要求。 1.避开强电、强磁等严重影响雕刻机信号传输的设备。如:电焊机、发射塔等。 2.使用三芯电源...
伴随着国内市场竞争的日趋激烈,常规的MPW(多项目晶圆)布局也不能满足客户的要求,同时也不能最大限度地降低设计公司的研发成本,也不利于国内foundry厂市场的开拓。鉴于此,文章着重提出了利用光刻机挡板把光罩进行区域划分,在不增加流片和满足客户要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客户的流片费用。通过在15cm片上流片验证,更加突出了此优化光罩布局的方法在研发成本和满足客户要求等方面的优越性,因而这种布局对我国集成电路的发展和新产品的研发工作,特别是对国内中小企业的成长提供了有力的支持,也为foundry厂赢得市场提供了重要的手段。
道闸 主要功能: 功能一,手动按钮可作 ‘升’‘降’及‘停’操作、无线遥控可作 ‘升’‘降’‘停’及对手动按钮的 ‘加锁’‘解锁 ’操作 ; 功能二,停电自动解锁,停电后可手动抬杆 ; 功能三,具有便于维护与调试的 ‘自检模式 ’; 道闸 道闸又称挡车器,最初从国外引进,英文名叫 Barrier Gate ,是专门用于道路上限 制机动车行驶的通道出入口管理设备 ,现广泛应用于公路收费站、 停车场系统 管理车 辆通道,用于管理车辆的出入。电动道闸可单独通过无线遥控实现起落杆,也可以通过 停车场管理系统 (即 IC 刷卡管理系统)实行自动管理状态,入场取卡放行车辆,出场 时,收取 停车费 后自动放行车辆。
小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3,通过激光直写在光刻胶上直接曝光制作所需要的图案,而无需掩膜版,专为实验室设计开发,适用于各种实验室桌面。
Focus Lock自动对焦
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。
直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。
标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。
光学轮廓仪
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
简单的直写软件
MicroWriter ML3由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
Clewin 掩模图形设计软件
可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
书写范围只由基片尺寸决定
电子/半导体器件
微/纳电机系统
自旋电子学
传感器
微流控
材料科学
生物实验室芯片
光子学
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