高速旋转激光直写光刻机
高速旋转激光直写光刻机是一种用于物理学、材料科学领域的科学仪器，于2014年11月28日启用。
高速旋转激光直写光刻机基本信息
| 中文名 | 高速旋转激光直写光刻机 | 产 地 | 中国 |
|---|---|---|---|
| 学科领域 | 物理学、材料科学 | 启用日期 | 2014年11月28日 |
通过激光与材料的相互作用，调节样品台旋转及X轴运动速度，可以实现类光栅结构点线阵列、任意图形和灰度图形的激光刻写。
高速旋转激光直写光刻机造价信息
激光波长405 nm，分辨率达100nm。
高速旋转激光直写光刻机常见问题
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蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机(Mask Aligner)...
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使用中可能产生的问题及售后服务保证 （一）．使用环境 雕刻机为高科技机电一体化设备，对工作环境有一定的要求。 1．避开强电、强磁等严重影响雕刻机信号传输的设备。如：电焊机、发射塔等。 2．使用三芯电源...
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木板激光刻字价格不高，影响激光雕刻的4个最根本的要素是：雕刻速度、激光功率、雕刻精度、材料。在特定材料上如要达到一定的雕刻效果，就要求吸收一定能量的激光，这一能量应看作是材料吸收的激光能量=激光功率/...
高速旋转激光直写光刻机文献
利用光刻机挡板优化MPW光罩布局
伴随着国内市场竞争的日趋激烈,常规的MPW(多项目晶圆)布局也不能满足客户的要求,同时也不能最大限度地降低设计公司的研发成本,也不利于国内foundry厂市场的开拓。鉴于此,文章着重提出了利用光刻机挡板把光罩进行区域划分,在不增加流片和满足客户要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客户的流片费用。通过在15cm片上流片验证,更加突出了此优化光罩布局的方法在研发成本和满足客户要求等方面的优越性,因而这种布局对我国集成电路的发展和新产品的研发工作,特别是对国内中小企业的成长提供了有力的支持,也为foundry厂赢得市场提供了重要的手段。
激光直写非对称多模高聚物光功率分配器
设计并制作了一种基于激光直写工艺的多模高聚物1×8光功率分配器。该器件采用了独特的次级非对称结构实现了光功率在各个输出端口的均匀分配。借助紫外激光直写的方式,配合高精度平移台实现了器件的加工,并将整个分配器的制作过程控制在5 min以内,从而在加工周期上颇具优势。对所得的分配器进行了性能测试,实验结果表明,端口输出光功率最大均匀度差异小于4%,证明了器件具有较为理想的分光性能。提出的激光直写法结构加工无需掩模或离子蚀刻等复杂加工手段,有助于大幅度提高制造效率并能够有效地控制器件性能。
小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3，通过激光直写在光刻胶上直接曝光制作所需要的图案，而无需掩膜版，专为实验室设计开发，适用于各种实验室桌面。
Focus Lock自动对焦
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。
直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。
标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。
光学轮廓仪
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
简单的直写软件
MicroWriter ML3由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
Clewin 掩模图形设计软件
可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）
可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
书写范围只由基片尺寸决定
电子/半导体器件
微/纳电机系统
自旋电子学
传感器
微流控
材料科学
生物实验室芯片
光子学
......
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