硅化锆合成方法

1.以金属锆和硅粉为原料。将金属锆粉碎，再与硅粉充分混合，将混合料放入石墨炉内，加热至900～1000℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1200℃左右进行反应，制得硅化锆。

2.采用直接法。以金属锆和硅粉为原料制备硅化锆，反应式如下。

首先将金属锆粉碎，再与硅粉充分混合，将混合料放入石墨炉内，加热至900～1000℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1200℃左右进行均化反应，即制得硅化锆。

常温密闭，阴凉通风干燥

1. 性状：灰色正方结晶粉末

2. 密度（g/mL,25℃）：4.88

3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定

4. 熔点（ºC）：1620

5. 沸点（ºC,常压）：未确定

6. 沸点（ºC，1mmHg）：未确定

7. 折射率：未确定

8. 闪点（ºC）：未确定

9. 比旋光度（º）：未确定

10. 自燃点或引燃温度（ºC）：未确定

11. 蒸气压（20ºC）：未确定

12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定

13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定

14. 临界温度（ºC）：未确定

15. 临界压力（KPa）：未确定

16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定

17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定

18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定

19. 溶解性：未确定

20. 晶格常数：a=0.372nm，b=1.476nm，c=0.367nm。

21. 显微硬度（kg/mm2）：1063

22. 生成热（kJ/mol）：62.8

中文名称:硅化锆

英文名称:zirconium disilicide

别名:皮萨草

更多名称:Pisa grass

CAS号:12039-90-6

分子式:H12Si2Zr

分子量:159.4903

用作精细陶瓷原料粉，用于生产半导体薄膜生产用坩埚。

CAS号：12039-90-6

MDL号：MFCD00151547

EINECS号：234-911-1

PubChem号：24864812

1、 氢键供体数量：0

2、 氢键受体数量：0

3、 可旋转化学键数量：0

4、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：0

5、 重原子数量：3

6、 表面电荷：0

7、 复杂度：18.3

8、 同位素原子数量：0

9、 确定原子立构中心数量： 0

10、 不确定原子立构中心数量：0

11、 确定化学键立构中心数量：0

12、 不确定化学键立构中心数量：0

13、 共价键单元数量：1

通常对水是不危害的，若无政府许可，勿将材料排入周围环境

常温常压下稳定

避免的物料 氧化物