干法静电施釉法是指釉粉在一定压力的压缩空气作用下,悬浮于压缩空气中,经气力输送在通过一个高压电场时,空气中的电子撞击釉粉颗粒,使釉粉带负电。釉粉和坯体分别带负电荷和正电荷,在电荷吸引力作用下,带负电的釉粉向坯体运动,并在坯体的表面积聚,当釉粉和坯体之间的电势差等于零时,釉粉不再向坯体坯体方向运动,完成施釉。可以在坯体上形成0.1~ 1mm 厚的釉层。
干法静电施釉主要用于面砖的施釉,生坯、素坯、加化妆土和不加化妆土的适合于快速烧成和传统工艺的坯体都适用该工艺。使用干法静电施釉工艺得到的釉层颗粒堆积比较疏松,为烧成过程中气体的排除提供了大量的通道,烧后的釉面结构致密,降低了气泡、针孔等缺陷,釉面平整光滑。2100433B
半干法兼有湿法和干法脱硫的一些特点,指脱硫剂在干燥状态下脱硫,在湿状态下再生(如水洗活性碳再生流程),或者在湿状态下脱硫、在干状态下处理脱硫产物(如喷雾干燥法)的烟气脱硫技术。特别是在湿状态下脱硫、在...
技术根本不成熟,三种方法都是狗屁!用哪一种都会在短时间里腐蚀脱硫设备和相关设备,尤其湿法脱硫更甚!
湿式电除尘主要针对湿法脱硫,特备是喷淋法脱硫。因为湿法脱硫在净烟气中不可避免的要携带一些含有盐的雾滴,而这些盐在按照环保局认可的恒重测量法中,全部被认为是粉尘,为此若采用超低排放,需考虑加装湿电。而干...
最近在北京召开的全国陶瓷色、釉料研讨会上,台湾的专家在会上交流了“建筑陶瓷发展的新趋势”,现将其中干法施釉新技术作一介绍,仅供借鉴。传统的施釉方法是将釉料加水经研磨,借助坯体毛细孔现象吸收水分将釉附着在陶瓷坯体上,而这里介绍的这种新的施釉方法,是用胶水把干的釉粉或釉粒粘附在坯体上,这种方法可以使釉面更加富有变化。
专业文档供参考,如有帮助请下载。 第三节 干法和半干法脱硫工艺 喷雾干燥法脱硫工艺 喷雾干燥法脱硫工艺以石灰为脱硫吸收剂, 石灰经消化并加水制 成消石灰乳,由泵打入位于吸收塔内的雾化装置,在吸收塔内,被雾 化成细小液滴的吸收剂与烟气混合接触,与烟气中的 SO2发生化学反 应生成 CaS03,烟气中的 SO2被脱除。与此同时,吸收剂带入的水分迅 速被蒸发而干燥, 烟气温度随之降低。 脱硫反应产物及未被利用的吸 收剂呈干燥颗粒状,随烟气带出吸收塔,进入除尘器被收集。脱硫后 的烟气经除尘器除尘后排放。 为了提高脱硫吸收剂的利用率, 一般将 部分除尘器收集物加入制浆系统进行循环利用。 该工艺有两种不同的 雾化形式可供选择,一种为旋转喷雾轮雾化,另一种为气液两相流。 喷雾干燥法脱硫工艺具有技术成熟、 工艺流程较为简单、 系统可 靠性高等特点,脱硫率可达到 85%以上。该工艺在美国及西欧一些国 家有一
对陶瓷坯体进行自动化施釉的生产线就叫施釉线 。(盘类施釉线 一般分为3个部分 输入部分、 施釉部分和输出部分)
输入部分是指:对陶瓷坯体进行清理(如 除尘、去土、扫灰等)传送的部分。
施釉部分是指:对坯体进行自动化施釉(施釉部分主要是施釉机)。
输出部分是指:坯体施釉后再传送出来(这部分包括有擦掉坯体多余的釉的抹釉装置)
整个施釉线也就是
传入坯体————自动化施釉——————传出坯体
容积差施釉装置,其特征在于:包括上端敞口的回釉箱和施釉箱,其中施釉箱套装固定在回釉箱的底面上,两箱的底部连通,施釉箱的侧壁上设置有水平仪,施釉箱内设置有深度尺,其底部设置有高度可调的支座,回釉箱的底部设置有水平调节器。该装置由调整水平调节器配合水平仪观察,使施釉箱处于水平状态,调整支座高度配合深度尺,控制施釉的高度,施釉箱内釉液的液面距施釉箱顶口有一段距离,该距离要保证需要施釉的加工品浸入施釉箱内、底部触及支座,此时釉液要从施釉箱顶口溢出但又不至于使釉液从回釉箱内溢出。该装置减少了人为因素,保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致,且工艺简单,易操作,生产效率高。
高位循环补釉施釉装置,其特征在于:包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵,其中施釉箱套装固定在回釉箱的底面上,其侧壁上设置有水平仪,施釉箱内设置有深度尺,其底部设置有高度可调的支座,注釉箱位于施釉箱一侧的上方,其底部经单向阀与施釉箱连通,釉泵的输入端探入回釉箱的底部,其输出端探入注釉箱内。该装置由调整水平调节器配合水平仪观察,使施釉箱处于水平状态,调整支座高度配合深度尺,控制施釉的高度,减少了人为因素,保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致,提高了产品施釉的外观质量,且工艺简单,由原先的多道工序合为一次完成,设备结构简单,易操作,降低了产品成本,减少了次品率,提高了生产效率。