中文名 | 镀膜材料 | 材料组成 | 氧化物、氟化物等 |
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一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
氟化钕NbF3,氟化钡BaF2,氟化铈CeF3,氟化镁MgF2,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。
硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫化镉CdS等真空镀膜材料。
高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯钽TA,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟镓合金CuInGa,铜铟镓硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
备注:生产的真空镀膜材料均通过SGS认证,纯度高,溅点少,放气量小,薄膜均匀,附着力强,抗腐蚀性强,颜色均匀等优点。。
1。基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3. 蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小。
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
1。晶格匹配度
2。 基片温度
3。蒸发速率
哦,这个问题比较复杂。因为镀膜类别比较多,蒸发镀膜,溅射镀膜不一样。要看你给什么材料上镀了。塑料的话,温度在80镀下,玻璃在200度左右。把我的原则是,在基材性质不被改变的情况下(比如说不能镀完了塑料...
当固体或液体的一维线性尺度远远小于其他二维时,我们将这样的固体或液体称为膜。通常,膜可分为两类,一类是厚度大于1微米的膜,称为厚膜;另一类则是厚度小于1微米的膜,称为薄膜。 半导体功能器件和光学镀膜是...
超滤膜,是一种孔径规格一致,额定孔径范围为0.001-0.02微米的微孔过滤膜。在膜的一侧施以适当压力,就能筛出小于孔径的溶质分子,以分离分子量大于500道尔顿(原子质量单位)、粒径大于10纳米的颗粒...
文章编号 : 100525630 (2004) 0220218204 几种新颖的光学镀膜材料 Ξ 王星明 ,黄松涛 ,储茂友 ,段华英 ,张碧田 ,张明贤 ,龚述荣 ,潘德明 (北京有色金属研究总院 , 北京 100088 ) 摘要 : 当前光学镀膜技术和应用光学的进展迅速 , 新的各种形式光学镀膜材料不断涌 现。介绍了“预熔化”光学镀膜材料 、高阈值激光膜材料 、用于树脂基片的冷镀材料和光学镀 膜用靶材 ,并对这几种新型材料的应用情况及国内外的现状进行了简要介绍 。 关键词 : 镀膜材料 ; 预熔化 ; 激光损伤阈值 ; 靶材 中图分类号 : 0484 文献标识码 :A Several advanced ma ter ia ls for optica l coating W A N G X ing 2m ing , H UA N G Song 2tao, CH U M ao2y
空心玻璃微珠是一种新型材料,具备质轻,高强度的特点。利用化学或者物理方法将其表面金属化可以有效解决金属粉末的密度大,易氧化的缺陷,制备出高性能的电子屏蔽材料。
全景网5月3日讯 阿石创(300706)2017年度网上业绩说明会周四下午在全景·路演天下举办。关于公司PVD镀膜材料的市场占有率,副总经理张科介绍,根据行业研究报告显示,PVD镀膜材料的市场容量达到千亿的规模,年复合增长率达13%。
他指出,目前,美国、日本、德国等国少数跨国集团仍占据了我国PVD镀膜材料行业的大部分市场份额,公司市场占有率较低。但随着PVD镀膜材料行业国产化的加快,国内PVD镀膜材料行业上下游企业合作的加强,以及公司PVD镀膜材料生产技术的不断研发创新,公司市场份额将逐步扩大。(全景网)
更多活动详情,请点击:阿石创2017年度网上业绩说明会
活动链接:http://rs.p5w.net/html/70901.shtml
(纯度:99.9%-99.9999%)
1. 高纯氧化物:
一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO2,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,五氧化三钛、Ti3O5,五氧化二钽、Ta2O5,五氧化二铌、Nb2O5,三氧化二铝、Al2O3,三氧化二钪、Sc2O3,三氧化二铟、In2O3,二钛酸镨、Pr(TiO3)2,二氧化铈、CeO2,氧化镁、MgO,三氧化钨、WO3,氧化钐、Sm2O3,氧化钕、Nd2O3,氧化铋、Bi2O3,氧化镨、Pr6O11,氧化锑、Sb2O3,氧化钒、V2O5,氧化镍、NiO,氧化锌、ZnO,氧化铁、Fe2O3,氧化铬、Cr2O3,氧化铜、CuO等。
2. 高纯氟化物:
氟化镁、MgF2,氟化镱、YbF3,氟化钇、LaF3,氟化镝、DyF3,氟化钕、NdF3,氟化铒、ErF3,氟化钾、KF,氟化锶、SrF3,氟化钐、SmF3,氟化钠、NaF,氟化钡、BaF2,氟化铈、CeF3,氟化铅等。
4. 混合料:
氧化锆氧化钛混合料,氧化锆氧化钽混合料,氧化钛氧化钽混合料,氧化锆氧化钇混合料,氧化钛氧化铌混合料,氧化锆氧化铝混合料,氧化镁氧化铝混合料,氧化铟氧化锡混合料,氧化锡氧化铟混合料,氟化铈氟化钙混合料等混合料
3. 高纯金属类:
高纯铝,高纯铝丝,高纯铝粒,高纯铝片,高纯铝柱,高纯铬粒,高纯铬粉,铬条,高纯金丝,高纯金片,高纯金,高纯金粒,高纯银丝,高纯银粒,高纯银,高纯银片,高纯铂丝,高纯铪粉,高纯铪丝,高纯铪粒,高纯钨粒,高纯钼粒,高纯单晶硅,高纯多晶硅,高纯锗粒,,高纯锰粒,高纯钴,高纯钴粒,高纯钼,高纯钼片,高纯铌,高纯锡粒,高纯锡丝,高纯钨粒,高纯锌粒,高纯钒粒,高纯铁粒,高纯铁粉,海面钛,高纯锆丝,高纯锆,海绵锆,碘化锆,高纯锆粒,高纯锆块,高纯碲粒,高纯锗粒, 高纯钛片,高纯钛粒,高纯镍,高纯镍丝,高纯镍片,高纯镍柱,高纯钽片,高纯钽,高纯钽丝,高纯钽粒,高纯镍铬丝,高纯镍铬粒,高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等.
5. 其他化合物:
钛酸钡,BaTiO3,钛酸镨,PrTiO3,钛酸锶,SrTiO3,钛酸镧,LaTiO3,硫化锌,ZnS,冰晶石,Na3AlF6,硒化锌,ZnSe,硫化镉。
6. 辅料:
钼片,钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。
(纯度:99.9%-99.999%)
1.金属靶材:
1. 金属靶材:
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
PVD镀膜材料是各类薄膜材料的关键材料,应用领域广泛,种类繁多,其纯度、密度、品质等对最终的电子器件或光学元器件的质量和性能起着重要作用,目前高端镀膜材料产品纯度一般在99.99%-99.9999%(即 4-6N),其质量对膜层性能有很大的影响,同时会影响到镀膜的生产效率和成本。PVD镀膜工艺起源于国外,美国、日本和德国等国外厂商处于技术领先地位,产业集中度较高。在全球范围内,具有规模化生产能力的PVD镀膜材料生产企业数量相对较少,霍尼韦尔、JX金属、东曹、普莱克斯、三井矿业、住友化学、爱发科、优美科、佳能、默克等资金实力雄厚、技术水平领先、产业经验丰富的跨国公司凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于全球高端PVD镀膜材料市场的主导地位。
我国虽有丰富的上游原材料,受到发展历史和技术限制的影响,PVD镀膜材料行业在我国起步较晚,目前仍属于一个较新的行业。与国际知名企业生产的PVD镀膜材料相比,我国PVD镀膜材料研发生产技术总体上还存在一定差距,市场影响力相对有限,尤其在平板显示、半导体、太阳能电池等领域,全球高端PVD镀膜材料市场依然以美国、日本及德国等国家的PVD镀膜材料生产厂商为主导。近年来,国内少数PVD镀膜材料厂商逐步加大技术研发投入,经过数年的科技攻关和产业化应用,已逐渐突破关键技术门槛,拥有了部分产品的规模化生产能力,并积极参与国际技术交流和市场竞争,整体技术实力不断增强,并形成了以有研亿金、江丰电子、阿石创、隆华节能等为代表的专业厂商,这些厂商正在经历快速发展时期,上升势头较快。
PVD镀膜技术作为制备薄膜材料的主流技术,目前已被广泛用于制备各种具有特定功能的薄膜材料。在PVD镀膜材料两大系列产品中,溅射镀膜已成为最主要的薄膜材料制备方法,溅射靶材也是目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。20世纪90年代以来,随着消费类电子产品等终端应用市场的快速发展,溅射靶材的市场规模日益扩大,呈现高速增长的势头。新思界发布的《2017年PVD镀膜材料行业投资可行性分析报告》显示,2016年全球高纯溅射靶材市场规模约为113.6亿美元,其中平板显示(含触控屏)用靶材占比约35%,记录媒体靶材为29%,太阳能电池用靶材占比为18%,半导体用靶材占比约11%。
2016年全球高纯溅射靶材市场结构分析
数据来源:新思界产业研究中心整理
行业分析人士表示,随着全球平板显示、半导体、光学元器件、太阳能电池等行业生产规模持续扩张,我国进一步强化作为全球的电子信息、家用电器、太阳能电池及组件等产业的重要制造基地的地位,并直接带动了各类薄膜材料以及PVD镀膜材料行业的发展,使得中国成为PVD镀膜材料使用量快速增长的国家,给国内PVD镀膜材料厂商带来良好的发展机遇。