单面紫外光刻机

单面紫外光刻机是一种用于信息科学与系统科学、物理学、材料科学领域的工艺试验仪器,于2011年03月02日启用。

单面紫外光刻机基本信息

中文名 单面紫外光刻机 产    地 德国
学科领域 信息科学与系统科学、物理学、材料科学 启用日期 2011年03月02日
所属类别 工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

采用掩膜对准技术,对光刻胶进行曝光,使受紫外光辐照的光刻胶发生改变,从而完成刻蚀。

单面紫外光刻机造价信息

市场价 信息价 询价
材料名称 规格/型号 市场价
(除税)
工程建议价
(除税)
行情 品牌 单位 税率 供应商 报价日期
紫外光灯组 N=30KW 查看价格 查看价格

13% 广西绿城环境工程技术有限公司
紫外光灯组 N=30KW 查看价格 查看价格

13% 东莞市泉威水处理设备有限公司南宁分公司
紫外光消毒设备 Q=300m3/h P=3.52kw 查看价格 查看价格

13% 高新技术产业开发区文华机械设备经营部
紫外光消毒设备 Q=50m3/h P=0.6kw 查看价格 查看价格

13% 高新技术产业开发区文华机械设备经营部
紫外光消毒设备 Q=80m3/h P=0.96kw 查看价格 查看价格

13% 高新技术产业开发区文华机械设备经营部
紫外光感应器 FS-1000E 感应范围10米(正对7cm火焰时)灵敏度3段可选 查看价格 查看价格

达凯克丝

13% 深圳金航实业有限公司
紫外光灭菌灯 1.采用紫外线灯进行杀菌灭菌,紫外线消毒灯管,铝合金灯架. 查看价格 查看价格

13% 四川点金厨房设备有限公司
紫外光灭菌灯 1.采用紫外线灯进行杀菌灭菌,紫外线消毒灯管,铝合金灯架. 查看价格 查看价格

13% 成都华丰厨房设备有限公司
材料名称 规格/型号 除税
信息价
含税
信息价
行情 品牌 单位 税率 地区/时间
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2006年4季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2006年1季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2005年3季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2006年3季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2006年2季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2005年4季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2005年2季度信息价
夯实(电) 夯击能力20-62Nm 查看价格 查看价格

台班 广州市2005年1季度信息价
材料名称 规格/需求量 报价数 最新报价
(元)
供应商 报价地区 最新报价时间
紫外光处理 紫外光处理一次|800m² 0 查看价格 佛山市晨新航不锈钢有限公司 广东  江门市 2015-10-19
紫外光 30W|100台 1 查看价格 佛山市禅城区昌胜电子电器厂 广东  江门市 2009-12-25
紫外光 40W|100个 1 查看价格 深圳市宝安区中图新冠雅光电经营部 广东  江门市 2017-06-08
紫外光灭菌灯 1.采用紫外线灯进行杀菌灭菌,紫外线消毒灯管,铝合金灯架.|6台 3 查看价格 四川点金厨房设备有限公司 四川   2021-09-13
紫外光消毒器 (1)紫外光消毒器 Q=60m3/hr,P=1.1Kw|1.0台 1 查看价格 深圳市林瀚净水科技有限公司    2017-03-20
紫外光消毒器 (1)紫外光消毒器 Q=160m3/hr,P=2.8Kw|1.0台 1 查看价格 深圳市林瀚净水科技有限公司    2017-03-20
紫外光消毒装置 1.名称:紫外线消毒器2.规格:处理量为150m3/h,2KW|2台 1 查看价格 广州火田环保设备工程有限公司 广东   2018-02-05
紫外光消毒装置 1.名称:紫外线消毒器2.规格:Q=350m3/h,N=5kW|2台 1 查看价格 广州火田环保设备工程有限公司 广东   2018-02-05

3-5mm样品台,20×物镜,双视场分离,分辨率0.8μm,套外精度优于±0.5μm,365nm波长不低于40mW/cm2,光强度均匀度,100mm,直径内优于±3%。

单面紫外光刻机常见问题

  • 蚀刻机,啥叫光刻机,啥叫光栅刻画

    蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机(Mask Aligner)...

  • 激光刻板机怎么用?

    使用中可能产生的问题及售后服务保证 (一).使用环境 雕刻机为高科技机电一体化设备,对工作环境有一定的要求。 1.避开强电、强磁等严重影响雕刻机信号传输的设备。如:电焊机、发射塔等。 2.使用三芯电源...

  • 晶圆厂与光刻机制造商的关系是怎么一回事

    光刻机是晶圆厂的生产设备

单面紫外光刻机文献

利用光刻机挡板优化MPW光罩布局 利用光刻机挡板优化MPW光罩布局

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页数: 4页

评分: 4.4

伴随着国内市场竞争的日趋激烈,常规的MPW(多项目晶圆)布局也不能满足客户的要求,同时也不能最大限度地降低设计公司的研发成本,也不利于国内foundry厂市场的开拓。鉴于此,文章着重提出了利用光刻机挡板把光罩进行区域划分,在不增加流片和满足客户要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客户的流片费用。通过在15cm片上流片验证,更加突出了此优化光罩布局的方法在研发成本和满足客户要求等方面的优越性,因而这种布局对我国集成电路的发展和新产品的研发工作,特别是对国内中小企业的成长提供了有力的支持,也为foundry厂赢得市场提供了重要的手段。

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基于紫外光刻的微纳光纤布喇格光栅研究 基于紫外光刻的微纳光纤布喇格光栅研究

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评分: 4.4

介绍紫外光刻法制作微纳光纤布喇格光栅(MF-BG)的制作工艺,测量并分析不同直径的微纳光纤布喇格光栅的反射谱。数据表明随着微纳光纤的直径变小,光纤光栅的中心波长蓝移且反射强度也随之减小。仿真计算微纳光纤的有效折射率和光纤纤芯的束缚能力(即基模分布在纤芯的能量与基模全部能量的比值),来解释上述变化。

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曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。

常见光源分为:

可见光:g线:436nm

紫外光(UV),i线:365nm

深紫外光(DUV),KrF 准分子激光:248 nm, ArF 准分子激光:193 nm

极紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

对光源系统的要求

a.有适当的波长。波长越短,可曝光的特征尺寸就越小;[波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高,因为衍射现象会更严重。]

b.有足够的能量。能量越大,曝光时间就越短;

c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]

常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯),高压汞灯有许多尖锐的光谱线,经过滤光后使用其中的g 线(436 nm)或i 线(365 nm)。

对于波长更短的深紫外光光源,可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光(248 nm)、ArF 准分子激光(193 nm)和F2准分子激光(157 nm)等。

曝光系统的功能主要有:平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动

A 手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

C 自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。

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