等离子体增强化学气相沉积镀膜机技术指标
使用衬底尺寸200mm*200mm；衬底温度最高为350℃，温度均匀性正负5℃；可用于沉积SiO2，SiNx薄膜；薄膜均匀性正负5%；可接入6路工艺气体；传送腔室最终压力小于10Pa；反应腔室最终压力小于2Pa。
等离子体增强化学气相沉积镀膜机造价信息
主要用于制备SiO2、SiNx薄膜。
等离子体增强化学气相沉积镀膜机技术指标常见问题
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等离子体聚合物在结构上与普通的聚合物显著不同，它能形成含有活性基团的高度交联的网络结构，从而具有良好的均匀性及对基质的附着性［1，2］．有关采用等离子体聚合膜的TSM传感器的报道不多［3，4］，本室已...
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国内外企业利用低温等离子体技术在环保方面开发出了“低温等离子体有机废气净化设备”、“低温等离子体废水净化设备”及“低温等离子体汽车尾气净化技术”。1、低温等离子体在保鲜、杀菌、除臭等方面产品开发，目前...
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低温等离子体物理与技术经历了一个由60年代初的空间等离子体研究向80年代和90年代以材料为导向研究领域的大转变，高速发展的微电子科学、环境科学、能源与材料科学等，为低温等离子体科学发展带来了新的机遇和...
等离子体增强化学气相沉积镀膜机技术指标文献
过滤真空弧等离子体沉积成膜系统的磁过滤管道传…
介绍了采用90°螺旋管的过滤真空弧等离子体沉成膜系统,对磁过滤管道的传输特性进行了实验研究,实验观察到,弧源聚焦磁场和过滤管道正偏压越高,过滤管道的传输效率越高,但聚焦磁场高过一定阈值时,会出现起弧不稳现象,此阈值的大小同过滤管道磁场及偏压的大小有关,过滤管道正偏压在40￣60V范围内,管道磁场在7￣11mT时传输效率较高,偏压越高达到最佳传输效率所需的过滤管道磁场越高。
常压化学气相沉积法制备Ti_5Si_3薄膜及其镀膜玻璃
以制备兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、四探针测阻仪和分光光度计对薄膜的相结构、形貌、电学、光学性能进行了表征。结果表明:薄膜为六方结构的Ti5Si3晶相,晶相含量较高,晶粒尺寸为23nm,薄膜中的晶粒以200nm左右的多晶颗粒团聚体形式存在。薄膜电阻率为122μΩ·cm,与Ti5Si3晶体的本征电阻率相当。这种单层镀膜玻璃的红外反射率可高达92.1%,可见光区的透过率为25%,兼具阳光控制和低辐射功能。
低温成膜，温度对基片影响小，可制备厚膜，膜层成分均匀；等离子体对基片有清洗作用；该设备主要应用等离子体化学气相沉积技术，用来制作SiO2、SiN4、非品Si等介电、半导体及金属膜。
直径450*H400mm，真空极限优于6.7*10-5Pa，频率13.56MHz.低温成，温度对基片影响小，可制备厚膜，膜层成分均匀，等离子体对基片有清洗作用。
薄膜材料。
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