第1章 高分辨电子显微方法的基础
1.1 透射电子显微镜的原理
1.2 电子散射和傅里叶变换
1.3 高分辨电子显微像的形成
1.3.1 薄膜试样的高分辨电子显微像
1.3.2 电子显微镜的分辨率
1.3.3 厚度样的高分辨电子显微像
1.4 高分辨电子显微像的计算机模拟
1.4.1 程序的构成和输入的参数
1.4.2 在考虑晶格缺陷和吸收时的计算模拟
1.4.3 程序的检查
参考文献
第2章 高分辨电子显微方法的实验
2.1 高分辨电子显微像的种类
2.1.1 晶格条纹
2.1.2 一维结构像
2.1.3 二维晶格像
2.1.4 二维结构像
2.1.5 特殊的像
2.2 高分辨电子显微镜观察
2.2.1 像观察前的注意事项
2.2.2 像观察前的注意事项
2.2.3 拍摄像的选择
2.2.4 像解释时的注意事项
2.2.5 高分辨电子显微镜观察的练习
参考文献
第3章 高分辨电子显微方法的应用
3.1 晶格缺陷、表面和界面的高分
3.1.1 位错
3.1.2 晶界和相界面
3.1.3 表面
3.1.4 其他结构缺陷
3.2 各种物质的高分辨电子显微像
3.2.1 陶瓷
3.2.2 超导氧化物
3.2.3 有序合金
3.2.4 准晶
参考文献
第4章 高分辨电子显微方法的周边技术
4.1 图像处理
4.1.1 高分辨电子显微像的输入和输出
4.1.2 高分辨电子显微像图像处理的实践
4.2 定量解析
4.2.1 新记录系统的原理
4.2.2 新的图像记录系统的特性
4.2.3 用残差指数解析高分辨电子显微像
4.3 电子衍射方法
4.3.1 电子衍射方法的基础
4.3.2 电子衍射方法的实际操作
4.3.3 各种结构及其电子衍射花样的特征
4.4 弱束方法
4.4.1 弱束方法的原理和特点
4.4.2 弱束像的观察程序
4.5 电子显微镜性能的评价
4.5.1 电子显微镜基本参数的评价
4.5.2 电子显微镜分辨率的评价
4.6 试样制备方法
4.6.1 粉碎方法
4.6.2 电解减薄方法
4.6.3 化学减薄方法
4.6.4 超薄切片方法
4.6.5 离子减薄片方法
4.6.6 聚焦离子束方法
4.6.7 真空蒸涂方法
参考文献
附录
附录1 物理常数、换算系数和电子波长等
附录2 晶体几何学关系
……
参考文献
索引2100433B
本书介绍了高分辨电子显微方法的原理,解释了像的衬度与原子排列的对应关系,给出了像计算的具体步骤;叙述了高分辨电子显微像的种类及其具体的拍摄方法;强调了获得最佳拍摄条件的重要性,讨论了最佳条件拍摄的注意事项以及试样厚度和离焦量等对象衬度的影响。本书用较大的篇幅介绍了该方法在材料评价中的应用,叙述的重点是各种晶格缺陷和每种材料的结构特征,介绍了它们观察方法和对象的解释。作为相关技术,本书叙述了图像处理,以及采用新的记录载体进行了定量解析。另外,对电子衍射和弱束方法,以及用于高分辨电子显微方法的各种试样制备技术做了概述。
本书可供电子显微学工作者、材料研究人员和大专院校有关专业的师生阅读参考。
作 者:(日)进藤 大辅,平贺 贤二 合著
出 版 社:冶金工业出版社
出版时间:1998-8-1
版 次:1
页 数:186
字 数:300000
印刷时间:2004-4-1
开 本:
纸 张:铜版纸
印 次:I S B N:9787502421113
包 装:平装
顾名思义,所谓电子显微镜是以电子束为照明光源的显微镜。由于电子束在外部磁场或电场的作用下可以发生弯曲,形成类似于可见光通过玻璃时的折射现象,所以我们就可以利用这一物理效应制造出电子束的“透镜”,从而开...
电子显微镜是根据电子光学原理,用电子束和电子透镜代替光束和光学透镜,使物质的细微结构在非常高的放大倍数下成像的仪器。 电子显微镜的分辨能力以它所能分辨的相邻两点的最小间距来表示。20世纪70年代,透射...
电子显微镜的分类 1、透射电镜 (TEM) 样品必须制成电子能穿透的,厚度为100~2000 Å的薄膜。成像方式与光学生物显微镜相似,只是以电子透镜代替玻璃透镜。放大后的电子像在荧光屏上显示出来,TE...
Al-Mg-Si合金析出强化相的前驱相(GP区)的形成对于析出强化的性能有重要影响,但是由于其尺度极其微小,往往很难直接观察.本文通过对Al-Mg-Si合金中可能存在的单层富Mg及富Si GP区的不同厚度、不同存在形态进行全方位计算机模拟,确认了GP区成像的存在条件.单层富Mg或富Si GP区在不被铝合金基体包裹的试料中可以形成清晰的高分辨电子显微镜像,并且Mg-GP区与Si-GP区呈现出相反的对比.这为GP区的高分辨电镜观察提供了可靠的理论依据.
HDPE,LLDPE或LDPE高取向薄膜微结构的电子显微...
内容简介
《材料评价的分析电子显微方法》全面介绍了各种分析电子显微方法。对两种最重要的电子显微分析技术——电子能量损失谱和X射线能谱分析方法的理论基础、实验技术、谱的解析,进行了系统的讲解,指出了定量分析时的注意事项。 2100433B
冷场发射扫描电子显微镜m213451是专门为现今技术研究和发展设计的超高分辨率仪器 。独特之处在于使用复合检测器允许同时显示二次电子和背散射电子成像。可以以三维立体形态观察各种物质的原子或分子结构,具有比一般扫描或电子显微镜更卓越的性能。HITACHI
m213451在半导体设备和过程评估上也很有用,这种超高分辨率的电子显微装置可以采用1KV的加速电压,保证1.8nm的分辨率。采用了独特操作方式减少荷电假象和边缘效应,这些优异性能使其远远领先于其他扫描电镜。
1.加速电压:0.1kV - 30kV 2.分辨率:0.8nm(15kV) 3.放大倍率:20x – 800,000x 4.配备日本Horiba公司能谱仪:X-MAX,检测元素范围4Be~92U。