中文名 | 不锈钢抛光新工艺 | H3PO4(%) | 40-50 20-30 |
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H2SO4(%) | 15-20 20-30 | HNO3(%) | 10-15 |
一、特点
1、抛光效率高,数分钟内可抛光至镜面光亮,且抛光深度强,抛光后光泽保持长久不变。
2、抛光液磷酸含量低,成本低,较一般使用的传统抛光液低30%以上。
3、抛光电流密度小,电压低,电能消耗较传统工艺低1倍左右。
4、抛光液稳定容易维护管理。
5、适用18-8类型奥氏体不锈钢抛光,也适用镍基合金抛光。
二、抛光液组成和操作条件
浓磷酸(比重 1.74) 510ml/L 887.4g/L
浓硫酸(比重1.84) 395ml/L 726.8g/L
WB-260添加剂 50ml/L 52.5g/L
水 50ml/L 50g/L
温度 50–75℃ 最佳60–65℃
阳极电流密度,DA 6–15A/dm2 最佳10–12A/dm2
电压 5–8 伏
抛光时间 3–5分钟
阴极材料 铅或铅合金
阴极面积∶阳极面积 2–3∶1
三、开槽步骤
WB-260添加剂是一种表面活性剂,在其使用初期电解抛光时会产生大量泡沫,因此抛光液液面与抛光槽顶部之间的距离不应≤15cm。准确计算将欲配制的电解抛光液的体积,再根据抛光液组成将所要加入的抛光液各组分按下列顺序加入抛光槽内。
1、注入所需水量。
2、加入所需磷酸量。
3、切记硫酸用水稀释时会释放出大量热量,溶液温度急剧升高,边搅拌边添加,当温度升至80℃时应停止添加,待溶液冷却后再进一步添加直至全部加完。
4、加入所需数量WB-260添加剂,边搅拌边添加,添加完毕后彻底搅拌以确保均匀混合。
四、工艺流程
化学除油 → 热水清洗 → 浸酸(1–2% 硫酸溶液) → 电解抛光 → 三道逆流清洗 → 浸碱(5% 碳酸钠溶液) → 热水清洗 → 擦干或烘干
五、槽液维护及补加
1、不锈钢工件在进入抛光槽之前应尽可能将残留在工件表面的水分除去,因工件夹带过多水分有可能造成抛光面出现严重麻点,局部浸蚀而导致工件报废。
2、在电解抛光过程中,作为阳极的不锈钢工件,其所含的铁、铬、镍元素不断转变为金属离子溶入抛光液内而不在阴极表面沉积。随着抛光过程的进行,金属离子浓度不断增加,当达到一定数值后,这些金属离子以磷酸盐和硫酸盐形式不断从抛光液内沉淀析出,沉降于抛光槽底部。为此,抛光液必须定期过滤,去除这些固体沉淀物。
3、在抛光槽运行过程中,除磷酸、硫酸不断消耗外水分因蒸发和电解而损失,此外,高粘度抛光液不断被工件夹带损失,抛光液液面不断下降,需经常往抛光槽补加新鲜抛光液和水。
4、该抛光液在未经抛光前的原始比重为1.68,在抛光槽运行过程中,抛光液的比重应控制在1.68±0.03的范围内。抛光液比重和粘度过高,说明抛光液含水量不足或硫酸含量偏高磷酸含量偏低;反之,抛光液比重过低,表明抛光液含水量过高。经常用比重计测定抛光液的比重是一种简单有效的控制手段。
5、在有条件的情况下,最好定期分析抛光液的酸度、磷酸及硫酸的含量。
六、设备要求
电解抛光液通常为矿物酸并在较高的温度下操作,因此抛光槽、清洗槽、阴极、加热盘管及排风装置必须由可耐抛光液腐蚀的材料制造。
1、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、环氧玻璃钢以及内衬上述材料的钢槽均可用作电解抛光槽。
2、电加热或蒸汽加热盘管可选用以下材料:
⑴、聚四氟乙烯盘管:管束式聚四氟乙烯换热器用于蒸汽加热。聚四氟乙烯电加热管用于电加热。聚四氟乙烯盘管价格虽高但使用寿命长且电中性。
⑵、纯铅或铅锑合金盘管:纯铅或铅锑合金可用作电解抛光蒸汽加热盘管。为增加盘管使用寿命,在抛光液液面与空气交界处应另用铅加厚。
⑶、石英电加热管。
3、挂具:带有钛制挂钩的外涂塑溶胶的铜挂具的使用寿命最长。因本抛光液不含铬酸,也可用磷青铜作挂钩。
由于现有的不锈钢电抛光液都采用磷酸和铬酐,在抛光和清洗过程中有不少铬(Ⅵ )及磷酸根在废水中排出,造成环境污染,通过试验,推荐下列配方和工艺条件。
1 2 3
高氯酸(%) 8-10
冰醋酸(%) 余量
H2O 余量 余量
添加剂 适量糊精 适量甘油 A添加剂少量
t(℃) 60-70 65-70 常温
Da(A/dm2) 2
T(min) 3-5 3-8 3-5
环保型电抛光液配方1、2不用铬酐,磷酸用量少,这种配方减少了污染排放。配方3完全不用磷酸和铬酐,解决了废水排放的环境问题,是一种全新型的无污染的环保型电化学抛光剂,其工艺流程如工艺如工艺条件与原有的基本相同,抛光效果也基本相同,保证了抛光质量。
在生产过程中不锈钢表面容易出现一些黑色氧化皮或是微观不平等,影响其使用价值。只有对其再加工如机械抛光、化学抛光和电化抛光处理来提高其自身价值,因此推荐以下的工艺或许可获得较好的效果。
化学去油→水洗→酸洗→水洗→化学抛光→水洗→电抛光→水洗→钝化→水洗→烘干→检验。
化学抛光:30%H2O2 150-220ml / L;H2SO4 约5 ml / L;稳定剂 10g / L;T 50-70℃;t 5-10min;
电化学抛光:85% H3PO4 600ml / L;94%H2SO4 300ml / :L;丙三醇 30ml / L;糖精2-4g / L;DA30-60A/ dm2;T 50-70℃;t 5-8 min;
钝化:CrO3 100-150g / L;H2SO4 1-5ml / L;室温10-20℃。
粗砂打磨 , 明亮的 ,平淡结束 ,发线,染色完成,光明退火,镜面抛光 抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种: 1.1 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平 滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体 表面,可使用转台等辅助工具, 表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。 超精研抛是采 用特制的磨具, 在含有磨料的研抛液中, 紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。 利用 该技术可以达到 Ra0.008 μm 的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采 用这种方法。 1.2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶 解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备, 可以抛光形状复杂的工件,可 以同时抛光很多工件, 效率高。 化学抛光的核心问题是抛光液的配制。 化学抛光得