化工仪表设计规范 发布时间： 11-05-31 来源： 点击量： 15720 字段选择：大中小 第一章仪表位号 仪表位号组成 由仪表功能标志和仪表回路编号组成 PIC-110 仪表位号 PIC 仪表功能标志 110仪表回路编号 仪表功能标志 仪表功能标志应该符合《 HG-T20505-2000 仪表功能标志的常用组合字母见《 HG-T20505-2000 过程测量和控制仪表的功能 标志及图形符号》表 功能标志的首位字母选择应与被测变量或引发变量相应，可 以不与被处理的变量相符。如为调节流量的，用在液位系统中的功能标志是 LV，而不 是 FV。 仪表功能标志的首位字母后面可以附加一个修饰字母，这时原来的被测变量就变 成一个新变量。如在首位字母 P、T后面加 D，变成 PD、TD，原来的压力、温度就变 成压差、温差。 仪表功能标志的后继字母后面也可附加一个或两个修饰字母，以对读出功能进行 修
1 行业法规及管理规定 1.1 化工厂初步设计内容深度规定 [(88)化基设字第 251号 ] 1.2 化工厂初步设计内容深度规定中有关内容更改的补充 [(92)化基发字第 695号 ] 1.3 自控专业施工图设计内容深度规定 (HG 20506) 1.4 化工装置自控工程设计规定 (HG/T 20636~20639) 1.4.1 自控专业设计管理规定 (HG/T 20636) 1 自控专业的职责范围 (HG/T 20636.1) 2 自控专业与工艺、系统专业的设计条件关系 (HG/T 20636.2) 3 自控专业与管道专业的设计分工 (HG/T 20636.3) 4 自控专业与电气专业的设计分工 (HG/T 20636.4) 5 自控专业与电信、机泵及安全（消防）专
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