为优化免洗小米抛光工艺,在单因素试验基础上,选择上光剂的浓度、温度和添加量为自变量,洗米水的浊度为响应值,根据中心组合试验设计原理采用3因素3水平响应面分析法,模拟得到二次多项式回归方程预测模型,并确定免洗小米抛光的最佳工艺条件为:浓度30%、温度30℃、添加量1%,浊度为54.8NTU。
植物配置系列: 园林植物与建筑小品的配置 作者： 车生泉 ， 郑丽蓉 作者单位： 刊名： 园林 英文刊名： GARDEN 年，卷(期)： 2004(12) 被引用次数： 3次 引
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