为了解决真空中的沿面闪络现象制约真空绝缘系统的整体性能的问题,提出将一种具有优良的可加工性能及表面耐电性能的微晶玻璃(又称可加工陶瓷)引入真空绝缘领域,研究了氢氟酸的体积分数φ(HF)不同时处理可加工陶瓷样品前后其电学特性的变化。利用X射线衍射(XRD)技术,定性分析了φ(HF)不同时处理样品后表面的玻璃相的体积分数φ(GP);采用光电结合的方法,测量了φ(HF)不同时处理样品在真空高压脉冲下的沿面闪络特性。φ(HF)不同时处理可加工陶瓷后,其表面φ(GP)和真空表面耐电性能均改变;φ(HF)越高,则样品表面的φ(GP)越低,真空耐电特性越好。通过氢氟酸处理可以腐蚀掉样品表面的玻璃相,从而改变了脱陷电子的"爬电高度",进而影响了可加工陶瓷的真空表面耐电性能。
本文主要讨论氢氟酸对蒙乃尔滤管腐蚀后抗拉强度的影响,讨论了腐蚀时间对抗拉强度的影响,并对环拉断面进行了SEM形貌分析。随着腐蚀时间的延长,在不同工艺条件下所制备的滤管其抗拉强度产生不同的变化。在同一腐蚀时间条件下,不添加成形剂的滤管,其抗拉强度比添加成形剂的试管抗拉强度要高;同一工艺制备的滤管,随着烧结温度的提高,其腐蚀后的抗拉强度也有所提高。
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