用于脉冲功率技术中的离子束断路开关
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介绍用于真空储能装置中的离子束断路开关——IBOS。它是利用高速低密离子束代替低密中速等离子体融蚀断路开关“等离子体”而形成的,从而获得了更短的开断时间(<4ns)。
铬钼铸铁等离子束表面硬化层组织和硬度
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用等离子束对汽车覆盖件模具用铬钼铸铁进行表面淬火与熔覆,以达到表面强化效果。研究了硬化层的显微组织、硬度分布。结果表明,铬钼铸铁等离子束淬火处理后,硬化层平均厚度约400μm,表层平均硬度达728 HV0.2;等离子束熔覆后硬化层平均厚度约800μm,表层平均硬度达1065 HV0.2。硬化层截面硬度分析表明,硬度最高值出现在次表层;随等离子束处理次数的增加,硬化层的深度显著增加;等离子束硬化后淬火与熔覆层硬度明显提高。
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