研磨 (HX) 一、研磨的目的及基本原理 1. 目的 :(1) 去除精磨的破坏层达到规定的外观限度要求 (2) 精修面形 ,达到圆面规定的曲率半径 R值 ,满足面本数 NR要求及光圈局部的曲率允差 (亚斯 )的要求 2. 基本原理 :通过机械的运动 ,经过研磨皿 ,研磨剂与玻璃之间的化学作用 ,从而达到精度拋光的 目的 二、所需治具的种类及用途 1.研磨皿 :用来精磨镜片 2.夹具 :用来盛装镜片 ,进行精磨 3. 中继治具 :皿具与机台之间的椄头 ,可调节同轴度及高度 4. 合皿 :用来修复钻修皿精度 5. 钻修皿 :用来修正研磨皿精度 ,( 钻修皿是由金钢石钻石颗粒料贴付而成的曲率面或是走形 曲率面 ,其精度一般为正皿 +2条 ,负皿 0~-1 条,修复研磨皮之用 ) 一、 研磨的主要控制点 1. 外观有无定点、伤痕、砂目、破裂、青蛙皮、腐蚀 2. 面精度的亚斯、垂边