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更新时间:2024.12.15
13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计

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基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显。最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的Si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅。

Type4超薄型安全光栅SF4C系列

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日本神视(SUNX)产品,依ISO13849.1标准分类,支持安全等级4的安全光栅新产品,厚度仅为13mm(带安装配件的厚度为13.2mm),可用于宽度较小的装置。

专题概述
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