以浸入沉积的方法在硅纳米线上修饰了金纳米颗粒,并通过电子扫描显微镜(SEM)和X射线荧光分析(XRF)对金纳米粒子修饰的硅纳米线电极表面形貌进行了表征.以修饰后的硅纳米线电极作为工作电极,采用阳极溶出法检测水中痕量铅和铜,考察pH值、富集电位和富集时间对溶出峰的影响,优化出最佳实验条件.在优化的实验条件下,铅Pb2+和铜Cu2+的灵敏度分别为0.649μA/(μg.L-1)和0.177μA/(μg.L-1).检测极限达到0.26μg.L-1和0.67μg.L-1.峰电流与离子浓度在质量浓度25~200μg.L-1的范围内形成良好的线性关系.
以浸入沉积的方法在硅纳米线上修饰了金纳米颗粒,并通过电子扫描显微镜(SEM)和X射线荧光分析(XRF)对金纳米粒子修饰的硅纳米线电极表面形貌进行了表征.以修饰后的硅纳米线电极作为工作电极,采用阳极溶出法检测水中痕量铅和铜,考察pH值、富集电位和富集时间对溶出峰的影响,优化出最佳实验条件.在优化的实验条件下,铅Pb2+和铜Cu2+的灵敏度分别为0.649μA/(μg.L-1)和0.177μA/(μg.L-1).检测极限达到0.26μg.L-1和0.67μg.L-1.峰电流与离子浓度在质量浓度25~200μg.L-1的范围内形成良好的线性关系.
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