酞菁的三阶非线性光学性能不仅取决于其分子结构,而且与酞菁分子在空间的排列密切相关。因此,控制酞菁化合物在空间的排列状态,就有望在超分子的层次控制酞菁的三阶非线性光学性能。我们设计了三类含有光致变色单元修饰的酞菁化合物。利用紫外光和可见交替照射下光致变色单元光异构过程中空间结构和电子结构的改变,实现了对酞菁自组装行为的有效光控。我们用Z-扫描的方法考察了光照前后这些酞菁光控自组装体系三阶非线性光学性能的改变。发现:这些材料不仅开关效应显著,且在"开"和"关"的状态下,都具有大的二阶分子超极化率(>10-30esu),在未来光电子和光子技术领域具有潜在的应用价值。
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