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更新时间:2024.12.21
电镜和光镜的区别

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方法 优点 缺点 适用范围 SYBR Green I 方 法 适用性广、灵敏、方便、 便宜 引物要求高,易出现非特异性带不能 进行多重定量 适合科研中对各种目的基因定量分析, 基因表达量的研究, 转基因重组动植物研究 TaqMan 方法 特异性高、重复性好、多 重定量 价格高,只适合特定目标 病原体检测,疾病耐药基因研究 ,药物疗效考核,遗传疾病 的诊断 电镜和光镜的区别 电镜 光镜 光源 电子束 可见光为光源 透镜 电磁透镜 玻璃凸透镜 成像原理 在电镜中,作用于被检样品的电子束经电磁透镜放大后达到荧光屏上成像或作用于 感光胶片成像。其电子浓淡的差别产生的机理是, 电子束作用于被检样品时,入射 电子与物质的原子发生碰撞产生散射,由于样品的不同部位对电子有不同的散射 度,故样品电子像以浓淡呈现 而光镜中样品的物像以亮度差呈现,它是由被检样品的不同 结构吸引光线多少的不同所造成的。 功能用途

透射电镜在钢铁中的应用

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透射电镜在钢铁中的应用(部分) 钢中典型组织的薄膜观察 1. 珠光体。 2. 上贝氏体。 3. 下贝氏体。 4. 板条马氏体。 5. 片状马氏体。 亚结构的观察 1. 双相不锈钢 双相不锈钢经固溶处理后为铁素体,奥氏体两相,晶体内部存在着许多缺陷,如位错、 层错等。在这块样品上可以看到位错、层错、等厚条纹、等倾条纹等许多衬度特征,以及电 子衍射图样(单晶、多晶)和菊池线等。分述如下: (1)位错 晶体中位错的存在,使局部区域晶格发 生崎变。当某一组晶面与布拉格条件的偏离 参量为 S。时位错线引起晶面畸变造成额外 的附加偏差 S′,从而造成其衬度,在明场 象中,位错象为暗线(图 5—26);在暗场象 中,位错象为亮线。位错象与其在晶体中的 实际位置有所偏离,而且有一定的宽度,随 着位错的性质、它在晶体中位置及取向等的 不同,位错象出现线状、点状和锯齿状等特 征。 (2)层错 图 5-26 材

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