大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(一)
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近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注。本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍。
建筑物上用的真空镀膜热反射玻璃
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选择具有良好反射红外线性能的涂膜,则需具有高电荷载体浓度和移动性。所谓真空镀膜就是要求结构均匀并缺陷少,且容易流动的电子而形成的镀膜。所用的金属主要有金、银、铜等。其透射率在40%以下,共形成的
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