超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用
《超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用》是依托于宁波江丰电子材料股份有限公司等单位，主要由姚力军等完成的科研项目。
超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用基本信息
| 中文名 | 超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用 | 项目编号 | F-309-2-08 |
|---|---|---|---|
| 获得奖项 | 国家技术发明奖二等奖 [1] | ||
2020年度国家技术发明奖二等奖项目。
超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用造价信息
主要完成人：
姚力军（宁波江丰电子材料股份有限公司）
刘庆（重庆大学）
王学泽（宁波江丰电子材料股份有限公司）
周友平（宁波江丰电子材料股份有限公司）
袁海军（宁波江丰电子材料股份有限公司）
边逸军（宁波江丰电子材料股份有限公司）
超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用常见问题
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溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异...
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完全可以做平板电容的电极和介质，溅射镀膜是很可控的薄膜，多以可以做高档电容
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溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 分类 根据形状可分为长靶，...
超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用文献
金属钛制备
金属钛的制备新工艺 摘要：本文主要介绍了关于钛的应用现状，并对高纯钛的主要生产方法——克劳 尔法、Hunter法、钙热还原法、熔盐电解法进行了综述，指出了只有几种方法结 合才能获得纯度要求非常高的纯钛。研究新的制备方法，克服传统制备工艺的复 杂性，提高生产效率，降低生产成本，是高纯钛制备研究的发展方向。 关键词：Kroll ； Hunter ； 钙热还原法； 熔盐电解法 Abstract： In this paper, titanium production processes of thermo-reduction including Kroll process, Hunter process ,Calcium thermal reduction process,Molten-salt Electrolysis . Study on the new production method
东兴铝业生产出纯度达99.90%的高纯铝
纯度达到99.90%的高品质原铝被称为“三九铝”,因其品质比普通原铝“更胜一筹”,主要用于工业化生产更高纯度铝。2017年,“高品质Al99.90产品开发”成为酒钢重大科技专项,东兴铝业研究所以技术攻关带动原铝品质“节节攀升”,部分电解槽成功生产出高品质Al99.90原铝产品。“三九铝”的诞生,标志着酒钢电解铝生产技术达到国内领先水平。
钼是一种金属元素,主要用于钢铁工业,其中的大部分是以工业氧化钼压块后直接用于炼钢或铸铁,少部分熔炼成钼铁，钼箔片后再用于炼钢。
它可增强合金的强度、硬度、可焊性及韧性,还可增强其耐高温强度及耐腐蚀性能。
四丰靶材专家指出,钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜这种射膜广泛用作电子部件和电子产品如目前广泛应用的TFT-LCD(Thin Filmtransitor- Liquidcrystaldis- plays薄膜半导体管-液品显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS[互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。
钼溅射靶材的应用
在电子行业中钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。
钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的1/2的优势而且不存在环境污染问题因此成为了平面显示器溅射靶材的首选材料之一。此外铝使用在LCD的元器件中可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能大大提升。
平面显示器行业中溅射靶材的主要市场应用之一是TLCD领域。市场研究表明未来几年是LCD发展的高峰期年增长率达30%左右。随着CD的发展LCD溅射靶材的消费量也快速增长年增长率约为20%。2006年全球钼溅射靶材的需求量约700t,2007年则为900左右。
除平面显示器行业外随着新能源行业的发展钼溅射靶在薄膜太阳能光伏电池上的应用也日益增加。钼溅射靶材主要通过溅镀形成CIGS(铜锢镓西薄膜电池电极层。图2是CGS太阳能电池的结构示意图,其中Mo处于太阳能电池的最底层作为太阳能电池的背接触其对CGS薄膜皛体的成核、生长、形貌有着非常重要的作用。
【总结】关于“钼溅射靶材的应用”就为您讲解到这里,对国内的银生产加工企业来说当务之急是抓住市场机遇提升工装水平和科研技术水平制备出高质量的钼溅射靶材产品。若您对上述内容还有疑问,或是相关了解产品相关及价格,欢迎点击【在线询价】服务,客服会在第一时间回复您。
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钽所具有的特性，使它的应用领域十分广阔。在制取各种无机酸的设备中，钽可用来替代不锈钢，寿命可比不锈钢提高几十倍。此外，在化工、电子、电气等工业中，钽可以取代过去需要由贵重金属铂承担的任务，使所需费用大大降低。 钽被制造成了电容装备到军用设备中。美国的军事工业异常发达，是世界最大军火出口商。世界上钽金属的产量一半被用在钽电容的生产上，美国国防部后勤署则是钽金属最大的拥有者，曾一度买断了世界上三分之一的钽粉。
主要吸收线及其主要参数:
λ/nm | f | W | F | S* | CL | G |
271.5 | 0.055 | 0.2 | N-A | 30 | 1.0 | |
260.9(D) | 0.2 | N-A | 23 | 2.1 | ||
265.7 | 0.2 | N-A | 2.5 | |||
293.4 | 0.2 | N-A | 2.5 | |||
255.9 | 0.2 | N-A | 2.5 | |||
264.8 | 0.2 | N-A | x | |||
265.3 | 0.2 | N-A | 2.7 | |||
269.8 | 0.2 | N-A | 2.7 | |||
275.8 | 0.2 | N-A | 3.1 | |||
277.6 | 0.2 | N-A | 58 |
λ:波长
f:振子强度
W:单色器光谱通带
N-A(氧化亚氮-乙炔焰)
S*:元素的特征浓度(1%吸收灵敏度)
CL:元素的检测极限
R·S:同一元素主要吸收线间的相对灵敏度
F:火焰类型
基本介绍
项目编号Plan Name in Chinese 20110426-T-610
中文项目名称Plan Name in Chinese 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
英文项目名称Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
制\修订Plan Name in English 制定
被修订标准号Replaced Standard
采用国际标准Adopted International Standard 无
采用国际标准号Adopted International Standard No
采用程度Application Degree
采标名称Adopted International Standard Name
标准类别Plan Name in English 产品
国际标准分类号(ICS)
计划完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年
完成时间Achievement Time
所处阶段Plan Phase 起草阶段
国家标准号Standard No.
备注Remark 国标委综合[2011]57号
起草单位Drafting Committee 有研亿金新材料股份有限公司
主管部门Governor 中国有色金属工业协会
归口单位Technical Committees 243 全国有色金属标准化技术委员会
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